路径: 主页 > GB/T > 第201页 > GB/T 15862-2012 | 标准编号 | GB/T 15862-2012 (GB/T15862-2012) | | 中文名称 | 离子注入机通用规范 | | 英文名称 | General specification of ion implantation equipment | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | L97 | | 国际标准分类 | 31.550 | | 字数估计 | 12,113 | | 旧标准 (被替代) | GB/T 15862-1995 | | 引用标准 | GB/T 191; GB/T 4857.7-2005; GB/T 5080.7-1986; GB/T 13384-1992; GB/T 6388-1986; GB 18209.1; SJ/T 142; SJ/T 1276; SJ/T 10674 | | 标准依据 | 国家标准公告2012年第28号 | | 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | | 范围 | 本标准规定了离子注入机的术语、产品分类、技术要求、试验、检验规则和标志、包装、运输、贮存。本标准适用于半导体工艺用电能离子注入机。其他离子注入机亦可参照使用。 | GB/T 15862-2012
General specification of ion implantation equipment
ICS 31-550
L97
中华人民共和国国家标准
代替GB/T 15862-1995
离子注入机通用规范
2012-11-05发布
2013-02-15实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准代替GB/T 15862-1995《离子注入机通用技术条件》。
本标准与GB/T 15862-1995相比主要变化如下:
---GB n193-1983由GB/T 13384-1992代替;
---增加术语“注入角度”(见3.6)、“最大晶片传输效率”(见3.7),并在性能指标及测试方法中做
相应要求(见6.4.6);
---环境温度调整为23℃±2℃;相对湿度规定范围30%~50%(见5.1.3);
---安全要求中增加“警示标识”的条款(见6.3.1);
---去掉表3、表4;
---均匀性测量增加了热波探针法测量条件和方法(见6.4.4.1b));
---重复性测量增加了批间重复性测量方法(见6.4.5.2);
---检验规则去掉例行检验项。
本标准由中华人民共和国工业和信息化部提出。
本标准由中国电子技术标准化研究所归口。
本标准起草单位:中国电子科技集团公司第四十八研究所。
本标准主要起草人:郭健辉、彭立波、罗宏洋。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
---GB/T 15862-1995。
离子注入机通用规范
1 范围
本标准规定了离子注入机的术语、产品分类、技术要求、试验、检验规则和标志、包装、运输、贮存。
本标准适用于半导体工艺用电能离子注入机。其他离子注入机亦可参照使用。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 191 包装储运图示标志
GB/T 4857.7-2005 包装 运输包装件基本试验 第7部分:正弦定频振动试验方法
GB/T 5080.7-1986 设备可靠性试验 恒定失效率假设下的失效率与平均无故障时间的验证试
验方案
GB/T 6388-1986 运输包装收发货标志
GB/T 13384-1992 机电产品包装通用技术条件
GB 18209.1 机械安全 指示、标志和操作 第1部分:关于视觉、听觉和触觉信号的要求
SJ/T 142 电子工业专用设备通用规范
SJ/T 1276 金属镀层和化学处理层质量检验技术要求
SJ/T 10674 涂料涂覆通用技术条件
3 术语
下列术语和定义适用于本文件。
3.1
束能量 beamenergy
到达靶上离子所具有的动能。
注:单位为电子伏特(eV)。
3.2
着靶束流 beamcurrentontarget
单位时间内靶上接收到的离子束电荷量。
注:单位为安培(A)。
3.3
均匀性 uniformity......
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