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[PDF] GB/T 15877-2013 - 英文版

标准搜索结果: 'GB/T 15877-2013'
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GB/T 15877-2013 229 GB/T 15877-2013 <=3 半导体集成电路 蚀刻型双列封装引线框架规范
基本信息
标准编号 GB/T 15877-2013 (GB/T15877-2013)
中文名称 半导体集成电路 蚀刻型双列封装引线框架规范
英文名称 Semiconductor integrated circuits -- Specification of DIP lead frames produced by etching
行业 国家标准 (推荐)
中标分类 L56
国际标准分类 31.200
字数估计 10,122
旧标准 (被替代) GB/T 15877-1995
标准依据 国家标准公告2013年第27号
发布机构 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

GB/T 15877-2013 Semiconductor integrated circuits - Specification of DIP leadframes produced by etching ICS 31.200 L56 中华人民共和国国家标准 代替GB/T 15877-1995 半导体集成电路 蚀刻型双列封装引线框架规范 2013-12-31发布 2014-08-15实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会发布 前言 本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。 本标准代替GB/T 15877-1995《蚀刻型双列封装引线框架规范》。与GB/T 15877-1995相比主 要技术变化如下: ---关于第2章规范性引用文件:抽样标准由 GB/T 2828.1-2012代替 SJ/Z9007-1987, GB/T 14112-1993改为GB/T 14112-2015;增加引用文件GB/T 2423.60-2008、SJ20129; ---第3章增加了标称长度、侧蚀、表面腐蚀、芯片粘接区下陷的术语和定义; ---4.1引线框架尺寸中,删除了引线键合区的最小面积、金属间的间隔的有关内容; ---4.2引线框架形状和位置公差中,删除了精压区共面性、精压区深度的有关内容,增加了绝缘 间隙、芯片粘接区下陷、引线框架内部位置公差的有关要求; ---修改了“侧弯”的要求:原标准根据标称长度进行规定,本标准规定侧弯不超过0.051mm; ---修改了“卷曲”的要求:原标准中仅规定了卷曲变形小于标称条长的0.3%,本标准根据材料的 厚度进行规定; ---修改了“横弯”的要求:原标准根据引线数及条宽数进行规定,本标准根据标称长度进行规定; ---修改了“条带扭曲”的要求:原标准中仅规定了框架扭曲小于0.5mm,本标准将框架扭曲修改 为条带扭曲,并根据材料的厚度进行规定; ---修改了“引线扭曲”的要求:原标准中仅规定了引线扭曲不大于0.01mm,本标准规定引线扭曲 不超过3°30'; ---修改了“芯片粘接区斜度”的要求:原标准中分别规定了受压和不受压情况下的斜度,本标准统 一规定为在长或宽每2.54mm尺寸最大倾斜0.05mm; ---修改了“芯片粘接区平整度”的要求:本标准将芯片粘接区平面度修改为芯片粘接区平整度,原 标准根据引线数来规定,本标准统一规定为离每边0.127mm处,平整度不大于0.005mm; ---对4.3引线框架外观中相应条款进行了调整,增加了毛刺、凹坑、压痕、划痕、侧蚀和表面腐蚀 的有关要求; ---修改了“局部镀金”的要求:原标准中规定镀金层厚度不小于1.0μm,本标准修改为不小于 0.7μm; ---修改了“局部镀银”的要求:原标准中规定镀银层厚度不小于3.8μm,本标准修改为不小于 3μm; ---修改了“镀层外观”的要求:在原标准的基础上,增加了对镀层外观的相关要求; ---增加了“铜剥离试验”的有关要求; ---增加了“银剥离试验”的有关要求; ---增加了“鉴定批准程序”的有关要求; ---修改了“检验要求”的要求:原标准采用一次性检验方法,本标准修改质量一致性检验为由 A组、B组、C组检验项目组成;修改了“检验要求”中的抽样方案; ---修改了“贮存”的有关要求:原标准镀银引线框架保存期为三个月,本标准规定为六个月。 本标准由中华人民共和国工业和信息化部提出。 本标准由全国半导体器件标准化技术委员会(SAC/TC78)归口。 本标准起草单位:宁波东盛集成电路元件有限公司。 本标准起草人:任忠平、尹国钦。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为: ---GB/T 15877-1995。 半导体集成电路 蚀刻型双列封装引线框架规范 1 范围 本标准规定了半导体集成电路蚀刻型双列封装引线框架(以下简称引线框架)的技术要求和试验方 法及检验规则。 本标准适用于半导体集成电路蚀刻型双列(DIP)封装引线框架(镀金及镀银),单列蚀刻型引线框 架亦可参照使用。 2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文 件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。 GB/T 2423.60-2008 电工电子产品环境试验 第2部分:试验方法 试验 U:引出端及整体安 装件强度 GB/T 2828.1-2012 计数抽样检验程序 第1部分:按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样 计划 GB/T 7092 半导体集成电路外形尺寸 GB/T 14112-2015 半导体集成电路 塑......

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