[PDF] GB/T 19444-2004 - 英文版
| 标准号码 | 美元 | 购买PDF | 工期 | 标准名称(英文版) |
| GB/T 19444-2004 | 134 | GB/T 19444-2004 | <=3 | 硅片氧沉淀特性的测定—间隙氧含量减少法 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | GB/T 19444-2004 (GB/T19444-2004) |
| 中文名称 | 硅片氧沉淀特性的测定—间隙氧含量减少法 |
| 英文名称 | Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction |
| 行业 | 国家标准 (推荐) |
| 中标分类 | H26 |
| 国际标准分类 | 29.040.01 |
| 字数估计 | 5,572 |
| 发布日期 | 2004-02-05 |
| 实施日期 | 2004-07-01 |
| 引用标准 | GB/T 1557; GB/T 14143; GB/T 14144 |
| 采用标准 | ASTM F1239-1994, IDT |
| 标准依据 | Announcement of Newly Approved National Standards No. 3, 2004 (No. 65 overall) |
| 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会 |
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