路径: 主页 > GB/T > 第394页 > GB/T 24579-2009 | 标准编号 | GB/T 24579-2009 (GB/T24579-2009) | | 中文名称 | 酸浸取 原子吸收光谱法测定 多晶硅表面金属污染物 | | 英文名称 | Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-atomic absorption spectroscopy | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | H80 | | 国际标准分类 | 29.045 | | 字数估计 | 12,197 | | 发布日期 | 2009-10-30 | | 实施日期 | 2010-06-01 | | 引用标准 | GB/T 11446.1; ISO 14644-1 | | 采用标准 | SEMI MF1724-1104, MOD | | 标准依据 | 国家标准批准发布公告2009年第12号(总第152号) | | 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | | 范围 | 本标准规定了用酸从多晶硅块表面浸取金属杂质, 并用石墨炉原子吸收定量检测多晶硅块表面上的痕量金属杂质分析方法。本标准适用于碱金属、碱土金属和第一系列过渡元素如钠、铝、铁、铬、镍、锌的检测。本标准适用于各种棒、块、粒、片形多品或单晶硅表面金属污染物的检测。由于块、片或粒形状不规则, 面积很难准确测定, 根据样品重量计算结果。使用的样品重量为50g～300g, 栓测限为0.01ng/g。 | GB/T 24579-2009
Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-atomic absorption spectroscopy
ICS ２９．０４５
H８０
中华人民共和国国家标准
GB/T ２４５７９-２００９
酸浸取 原子吸收光谱法测定
多晶硅表面金属污染物
２００９-１０-３０发布
２０１０-０６-０１实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布
前言
本标准修改采用ＳＥＭＩＭＦ１７２４-１１０４《采用酸萃取-原子吸收光谱法测量多晶硅表面金属沾污》。
本标准对ＳＥＭＩＭＦ１７２４-１１０４格式进行了相应调整。为了方便比较，在资料性附录Ｃ中列出了本标准
章条和ＳＥＭＩＭＦ１７２４-１１０４章条对照一览表。并对ＳＥＭＩＭＦ１７２４-１１０４条款的修改处用垂直单线标
识在它们所涉及的条款的页边空白处。
本标准与ＳＥＭＩＭＦ１７２４-１１０４相比，主要技术差异如下：
---去掉了“目的”、“关键词”。
---将实际测试得到的单一试验室的精密度结果代替原标准中的精度和偏差部分，并将原标准中
的精度和偏差部分作为资料性附录Ｂ。
本标准的附录Ａ、附录Ｂ和附录Ｃ为资料性附录。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
本标准起草单位：信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研
究所。
本标准主要起草人：褚连青、王奕、魏利洁。
GB/T ２４５７９-２００９
酸浸取 原子吸收光谱法测定
多晶硅表面金属污染物
１ 范围
１．１ 本标准规定了用酸从多晶硅块表面浸取金属杂质，并用石墨炉原子吸收定量检测多晶硅块表面上
的痕量金属杂质分析方法。
１．２ 本标准适用于碱金属、碱土金属和第一系列过渡元素如钠、铝、铁、铬、镍、锌的检测。
１．３ 本标准适用于各种棒、块、粒、片形多晶或单晶硅表面金属污染物的检测。由于块、片或粒形状不
规则，面积很难准确测定，根据样品重量计算结果。使用的样品重量为５０ｇ～３００ｇ，检测限为０．０１ｎｇ／ｇ。
１．４ 酸的强度、组成、温度和浸取时间决定着表面腐蚀深度和表面污染物的浸取效率。在这个试验方
法中腐蚀掉的样品重量小于样品重量的１％。
１．５ 该试验方法提出了一种特定的样品尺寸、酸组成、腐蚀周期、试验环境和仪器方案，这些参数可以
调整，但可能影响金属的回收效率及滞留量。该方法适用于重量为２５ｇ～５０００ｇ的样品的测定，为达
到仲裁的目的，该试验方法规定样品重量为３００ｇ。该试验方法在干扰和结果的偏差方面做了详细
说明。
１．６ 该试验方法详细说明了用于分析酸提取痕量金属含量的石墨炉原子吸收光谱法的使用。也可使
用灵敏度相当的其他仪器如电感耦合等离子体／质谱仪。
１．７ 方法的检测限和偏差取决于酸提取过程的效率、样品尺寸、方法干扰、每个元素的吸收谱及仪器灵
敏度、背景和空白值。
１．８ 该方法是用热酸来腐蚀掉硅表面，腐蚀剂是有害的，操作必须在通风橱中进行，整个过程中必须非
常小心。氢氟酸溶液非常危险，不熟悉专门防护措施的人不能使用。
２ 规范性引用文件
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有
的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究
是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。
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３ 术语、定义和缩略语
３．１ 术语和定义
下列术语和定义适用于本标准。
３．１．１
一个所使用的酸的样品，用于监控背景光谱及操作过程中使用的浸取酸的痕量金......
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