路径: 主页 > GB/T > 第397页 > GB/T 34649-2017 | 标准编号 | GB/T 34649-2017 (GB/T34649-2017) | | 中文名称 | 磁控溅射用钌靶 | | 英文名称 | Magnetron sputtering ruthenium target | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | H68 | | 国际标准分类 | 77.150.99 | | 字数估计 | 10,187 | | 发布日期 | 2017-09-29 | | 实施日期 | 2018-04-01 | | 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | GB/T 34649-2017
Magnetron sputtering ruthenium target
ICS 77.150.99
H68
中华人民共和国国家标准
磁控溅射用钌靶
2017-09-29发布
2018-04-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由中国有色金属工业协会提出。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
本标准负责起草单位.有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院。
本标准起草人.罗俊锋、丁照崇、李勇军、向磊、万小勇、刘书芹、熊晓东、王庄、贺昕、滕海涛、高岩。
磁控溅射用钌靶
1 范围
本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和
订货单(或合同)内容。
本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钌靶(以下简称钌靶)。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 1804 一般公差 未注公差的线性和角度尺寸的公差
GB/T 5163 烧结金属材料(不包括硬质合金) 可渗性烧结金属材料 密度、含油率和开孔率的
测定
GB/T 6394 金属平均晶粒度测定方法
GB/T 14265 金属材料中氢、氧、氮、碳和硫分析方法通则
GB/T 23275 钌粉化学分析方法 铅、铁、镍、铝、铜、银、金、铂、铱、钯、铑、硅量的测定 辉光放电
质谱法
YS/T 837 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
3 术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
3.1
物理气相沉积镀膜的一种方法.通过在靶材表面引入电场和磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提
高等离子体密度,并利用电场对惰性气体(通常为Ar气)粒子加速轰击靶表面,从而溅射出材料原子或
原子团,最后沉积形成膜镀层。
3.2
用金属钌制备的用于磁控溅射的钯材,用于制备钌膜镀层。
4 要求
4.1 产品分类
4.1.1 钌靶按化学成分分为Ru-99.95、Ru-99.99、Ru-99.995、R......
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