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| 标准编号 | GB/T 4058-2009 (GB/T4058-2009) | | 中文名称 | 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法 | | 英文名称 | Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | H80 | | 国际标准分类 | 29.045 | | 字数估计 | 19,184 | | 发布日期 | 2009-10-30 | | 实施日期 | 2010-06-01 | | 旧标准 (被替代) | GB/T 4058-1995 | | 引用标准 | GB/T 1554; GB/T 14264; YS/T 209 | | 标准依据 | 国家标准批准发布公告2009年第12号(总第152号) | | 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | | 范围 | 本标准规定了硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法。本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中诱生或增强的晶体缺陷的检测。硅单晶氧化诱生缺陷的检验也可参照此方法。 | GB/T 4058-2009
Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
ICS ２９．０４５
H８０
中华人民共和国国家标准
GB/T ４０５８-２００９
代替GB/T ４０５８-１９９５
硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
２００９-１０-３０发布
２０１０-０６-０１实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布
前言
本标准代替GB/T ４０５８-１９９５《硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法》。
本标准与GB/T ４０５８-１９９５相比，主要有如下变化：
---范围中增加了硅单晶氧化诱生缺陷的检验；
---增加了引用标准；
---增加了“术语和定义”章；
---将原标准中“表１ 四种常用化学抛光液配方”删除，在第５章中对化学抛光液配比进行了修
改，删除了乙酸配方；增加了铬酸溶液Ａ的配制、Ｓｉｒｔｌ腐蚀液及 Ｗｒｉｇｈｔ腐蚀液的配制；增加了
几种国际上常用的无铬、含铬腐蚀溶液的配方、应用及适用性的分类对比表；
---采用氧化程序替代原标准中的氧化的操作步骤；增加了（１１１）面缺陷的显示方法及 Ｗｒｉｇｈｔ腐
蚀液的腐蚀时间，将（１１１）面和（１００）面缺陷显示方法区分开了；（１００）面缺陷的显示增加了
Ｗｒｉｇｈｔ腐蚀液腐蚀方法；
---在缺陷观测的测点选取中增加了“米”字型测量方法。
本标准的附录Ａ为资料性附录。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
本标准起草单位：峨嵋半导体材料厂。
本标准主要起草人：何兰英、王炎、张辉坚、刘阳。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为：
---GB ４０５８-１９８３、GB/T ４０５８-１９９５；
---GB ６６２２-１９８６、GB ６６２３-１９８６。
GB/T ４０５８-２００９
硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
１ 范围
本标准规定了硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法。
本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中诱生或增强的晶体缺陷的检测。
硅单晶氧化诱生缺陷的检验也可参照此方法。
２ 规范性引用文件
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有
的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究
是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。
GB/T １５５４ 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
GB/T １４２６４ 半导体材料术语
ＹＳ/T ２０９ 硅材料原生缺陷图谱
３ 术语和定义
GB/T １４２６４中规定的术语和定义适用于本标准。
４ 方法原理
模拟器件工艺的氧化条件，利用氧化来缀饰或扩大硅片中的缺陷，或两者兼有，然后用择优腐蚀液
显示缺陷，并用显微技术观测。
５ 试剂和材料
５．１ 三氧化铬，优级纯。
５．２ 氢氟酸，优级纯。
５．３ 硝酸，优级纯。
５．４ 氨水，优级纯。
５．５ 盐酸，优级纯。
５．６ 过氧化氢，优级纯。
５．７ 纯水，电阻率大于１０ＭΩ·ｃｍ（２５℃）。
５．８ 乙酸，优级纯。
５．９ 硝酸铜，优级纯。
５．１０ 清洗液１＃：水∶氨水∶过氧化氢＝４∶１∶１（体积比）。
５．１１ 清洗液２＃：水∶盐酸∶过氧化氢＝４∶１∶１（体积比）。
５．１２ 化学抛光液配比：ＨＦ∶ＨＮＯ３＝１∶（３～５）（体积比）。
５．１３ 铬酸溶液Ａ：称取５００ｇ三氧化铬于烧杯中，用水完全溶解后，移入１０００ｍＬ容量瓶中，用水稀
释至刻度，混匀（见GB/T １５５４）。
５．１４ 铬酸溶液Ｂ：称取７５ｇ三氧化铬于烧杯中，加水溶解......
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