[PDF] SJ 1794-1981 - 中国标准 英文版
| 标准号码 | 美元 | 购买PDF | 工期 | 标准名称(英文版) |
| SJ 1794-1981 | 239 | SJ 1794-1981 | <=3 | 半导体器件生产用扩散炉.通用技术条件 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | SJ 1794-1981 (SJ1794-1981) |
| 中文名称 | 半导体器件生产用扩散炉.通用技术条件 |
| 英文名称 | General specification for diffusion furnace for semiconductor device manufacturing |
| 行业 | 电子行业标准 |
| 中标分类 | L97 |
| 字数估计 | 6,668 |
| 发布日期 | 10/1/1981 |
| 实施日期 | 10/1/1981 |
| 范围 | 本标准适用于对半导体器件、集成电路用原材料进行氧化、扩散和其他热处理的扩散炉。本标准未做明确规定的一般技术要求, 应按SJ 142-78《电子工业专用设备总技术条件》执行。各类扩散炉的特殊要求, 在相应的产品标准中予以规定。 |
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