[PDF] SJ 2065-1982 - 中国标准 英文版
| 标准号码 | 美元 | 购买PDF | 工期 | 标准名称(英文版) |
| SJ 2065-1982 | 239 | SJ 2065-1982 | <=3 | 半导体器件生产用扩散炉测试方法 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | SJ 2065-1982 (SJ2065-1982) |
| 中文名称 | 半导体器件生产用扩散炉测试方法 |
| 英文名称 | Testing method for diffusion furnace for semiconductor device manufacturing |
| 行业 | 电子行业标准 |
| 中标分类 | L97 |
| 字数估计 | 6,626 |
| 发布日期 | 2/18/1982 |
| 实施日期 | 7/1/1982 |
| 范围 | 本标准适用于SJ 1794-81《半导体器件生产用扩散炉通用技术条件》中规定的各种类型扩散炉 。本标准规定了下列项目的测试方法:升温时间; 升温功率; 恒温区长度及恒温精度; 单点稳定性; 恒温功率; 恒温区稳定性; 开机重复性; 电网电压波动影响; 推舟恢复时间; 多管炉层间影响。本标准所用名词术语见附录A(补充件)。 |
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