[PDF] SJ 20984-2008 - 中国标准 英文版
| 标准号码 | 美元 | 购买PDF | 工期 | 标准名称(英文版) |
| SJ 20984-2008 | 339 | SJ 20984-2008 | <=3 | 化学气相淀积(CVD)设备通用规范 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | SJ 20984-2008 (SJ20984-2008) |
| 中文名称 | 化学气相淀积(CVD)设备通用规范 |
| 英文名称 | General specification for chemical vapor deposition(CVD) equipment |
| 行业 | 电子行业标准 |
| 中标分类 | L95 |
| 国际标准分类 | 31.240 |
| 字数估计 | 13,161 |
| 发布日期 | 2008-04-15 |
| 实施日期 | 2008-06-30 |
| 引用标准 | GB/T 191; GB/T 5080.7-1986; GB/T 6388; GB/T 5226.1-2002; GB/T 13384-1992; GB/T 37-1996; SJ 1276-1977; SJ/T 10674-1995 |
| 发布机构 | 工业和信息化部 |
| 范围 | 本规范规定了化学气相淀积设备的要求、质量保证规定、交货准备。本规范适用于电子行业中光电子、微电子器件的研制和生产的化学气相淀积设备, 其它行业的类似设备也可参照执行。 |
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