[PDF] SJ/T 10274-1991 - 英文版
| 标准号码 | 美元 | 购买PDF | 工期 | 标准名称(英文版) |
| SJ/T 10274-1991 | 349 | SJ/T 10274-1991 | <=3 | 掩模对准曝光机测试方法 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | SJ/T 10274-1991 (SJ/T10274-1991) |
| 中文名称 | 掩模对准曝光机测试方法 |
| 英文名称 | Test methods of mask alignment and exposure system |
| 行业 | 电子行业标准 (推荐) |
| 中标分类 | N38;L99 |
| 字数估计 | 10,150 |
| 发布日期 | 11/12/1991 |
| 实施日期 | 1/1/1992 |
| 引用标准 | GB 11481; GB 7237; GB 4857.9; GB 5398 |
| 标准依据 | 工科(2010) 第77号 |
| 范围 | 本标准规定了测试掩模对准曝光机(以下简称""曝光机"")的一般要求和方法。本标准适用于接触式和接触一接近式曝光机。 |
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