[PDF] SJ/T 11079-1996 - 英文版
| 标准号码 | 美元 | 购买PDF | 工期 | 标准名称(英文版) |
| SJ/T 11079-1996 | 349 | SJ/T 11079-1996 | <=3 | 掩膜对准曝光机通用技术条件 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | SJ/T 11079-1996 (SJ/T11079-1996) |
| 中文名称 | 掩膜对准曝光机通用技术条件 |
| 英文名称 | General specification of mask alignment and exposure system |
| 行业 | 电子行业标准 (推荐) |
| 中标分类 | N38 |
| 字数估计 | 10,113 |
| 发布日期 | 11/20/1996 |
| 实施日期 | 1/1/1997 |
| 旧标准 (被替代) | GB 11481-1989 |
| 引用标准 | GBN 193; GB 191; GB 6388; SJ 1276; SJ/Z 1793 |
| 范围 | 本标准规定了掩模对准曝光机的术语、技术要求、试验方法、检验规则等, 还对供货作了规定。本标准仅适用于接触曝光以及同时具备接触曝光和接近曝光功能的掩模对准曝光机。 |
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