[PDF] SJ/T 31119-1994 - 英文版
| 标准号码 | 美元 | 购买PDF | 工期 | 标准名称(英文版) |
| SJ/T 31119-1994 | 139 | SJ/T 31119-1994 | <=2 | 掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | SJ/T 31119-1994 (SJ/T31119-1994) |
| 中文名称 | 掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法 |
| 英文名称 | Requirements of readiness and methods of inspection and assessment for mask alignment and exposure systems |
| 行业 | 电子行业标准 (推荐) |
| 中标分类 | L97 |
| 字数估计 | 3,395 |
| 发布日期 | 4/15/1994 |
| 实施日期 | 6/1/1994 |
| 范围 | 本标准规定了掩模对准曝光机的完好要求和检查、评定方法。本标准适用于接触曝光以及同时具备接触曝光和接近曝光功能的掩模对准曝光机。 |
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