路径: 主页 > YS/T > 第13页 > YS/T 1053-2015 | 标准编号 | YS/T 1053-2015 (YS/T1053-2015) | | 中文名称 | 电子薄膜用高纯钴靶材 | | 英文名称 | High-purity cobalt sputtering target used in electronic film | | 行业 | 有色冶金行业标准 (推荐) | | 中标分类 | H62 | | 国际标准分类 | 77.150.70 | | 字数估计 | 11,144 | | 发布日期 | 2015-04-30 | | 实施日期 | 2015-10-01 | | 引用标准 | GB/T 1804; GB/T 2828.1; GB/T 6394; GB/T 8651; GB/T 14265; YS/T 837; YS/T 1011 | | 标准依据 | 工业和信息化部公告2015年第28号;行业标准备案公告2015年第7号(总第187号) | | 发布机构 | 工业和信息化部 | | 范围 | 本标准规定了电子薄膜用高纯钴靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯钴靶。 | YS/T 1053-2015
High-purity cobalt sputtering target used in electronic film
ICS 77.150.70
H62
中华人民共和国有色金属行业标准
电子薄膜用高纯钴靶材
2015-04-30发布
2015-10-01实施
中华人民共和国工业和信息化部 发 布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。
本标准负责起草单位:宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司。
本标准主要起草人:王学泽、李勇军、郑文翔、罗俊锋、袁海军、熊晓东、陈勇军、刘丹、陆彤、袁洁、
张涛。
电子薄膜用高纯钴靶材
1 范围
本标准规定了电子薄膜用高纯钴靶材(以下简称高纯钴靶)的要求、试验方法、检验规则和标志、包
装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯钴靶。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 1804 一般公差 未注公差的线性和角度尺寸的公差
GB/T 2828.1 计数抽样检验程序 第1部分:按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划
GB/T 6394 金属平均晶粒度测定方法
GB/T 8651 金属板材超声板波探伤方法
GB/T 14265 金属材料中氢、氧、氮、碳和硫分析方法通则
YS/T 837 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
YS/T 1011 高纯钴化学分析方法 杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
3 术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
靶材 target
溅射沉积技术中的阴极部分。该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子、原子或离子的形式
脱离阴极而在阳极表面沉积。
4 要求
4.1 产品分类
4.1.1 高纯钴靶按纯度分为4N5(99.995%)、5N(99.999%)两个级别。
4.1.2 高纯钴靶按焊接方式分为钎焊和非钎焊。
4.2 化学成......
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