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| 标准编号 | YS/T 1124-2016 (YS/T1124-2016) | | 中文名称 | 磁性溅射靶材透磁率测试方法 | | 英文名称 | Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target | | 行业 | 有色冶金行业标准 (推荐) | | 中标分类 | H21 | | 字数估计 | 5,523 | | 发布日期 | 2016-07-11 | | 实施日期 | 2017-01-01 | | 标准依据 | Notice of the Ministry of Industry and Information Technology (2016 No. 37) | | 发布机构 | 工业和信息化部 | | 范围 | 本标准规定了磁控溅射用磁性靶材透磁率的术语和定义、检测设备、检验过程及结果计算等内容。 |
YS/T 1124-2016
Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target
ICS 77.120.99
H21
中华人民共和国有色金属行业标准
磁性溅射靶材透磁率测试方法
2016-07-11发布
2017-01-01实施
中华人民共和国工业和信息化部 发 布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。
本标准起草单位:有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院。
本标准主要起草人:罗俊锋、万小勇、向磊、丁照崇、李勇军、何金江、徐国进、夏乾坤、刘晓、王越。
磁性溅射靶材透磁率测试方法
1 范围
本标准规定了磁控溅射用磁性靶材透磁率的术语和定义、检测设备、检验过程及结果计算等内容。
本标准适用于溅射薄膜用各类磁性靶材透磁率的检验。
2 术语和定义
下列术语和定义适用于本标准。
2.1
透磁率 passthroughflux
PTF
直流磁场从磁性靶材一面透过另一面的比率,也称磁透率。
2.2
源磁场 sourcefield
使用霍尔探头高斯计测量的贴近载物台上表面的磁场,为直流磁场,单位为Gs。
2.3
参考磁场 referencefield
载物台预置靶材的上表面位置的磁场,其强度取决于霍尔探头到源磁体的距离。
2.4
测量磁场 measuringfield
溅射靶材置于载物台后靶材的上表面位置的磁场。
3 检测设备
透磁率检测设备主要包括源磁体、载物台、高斯计和霍尔探头等,设备放置在无铁磁性材料或外部
强磁场干扰的环境中。示意图如图1所示。
3.1 源磁体
源磁体为马蹄形永磁铁,固定到载物台的下方,并保持稳定。源磁体两极平行于载物台表面。调整
源磁体距离载物台的位置,使霍尔探头高斯计测得的源磁场强度为825Gs±50Gs。
3.2 高斯计
高斯计是透磁率(PTF)检测的核心设备,附带有横向场霍尔探头。高斯计直流磁场测量范围为0~
3500Gs,精确度为±2%。霍尔探头在源磁体两极正中位置,如图1a)所示。霍尔......
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