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[PDF] YS/T 1124-2016 - 英文版

标准搜索结果: 'YS/T 1124-2016'
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YS/T 1124-2016 149 YS/T 1124-2016 <=3 磁性溅射靶材透磁率测试方法
基本信息
标准编号 YS/T 1124-2016 (YS/T1124-2016)
中文名称 磁性溅射靶材透磁率测试方法
英文名称 Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target
行业 有色冶金行业标准 (推荐)
中标分类 H21
字数估计 5,523
发布日期 2016-07-11
实施日期 2017-01-01
标准依据 Notice of the Ministry of Industry and Information Technology (2016 No. 37)
发布机构 工业和信息化部
范围 本标准规定了磁控溅射用磁性靶材透磁率的术语和定义、检测设备、检验过程及结果计算等内容。

YS/T 1124-2016 Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target ICS 77.120.99 H21 中华人民共和国有色金属行业标准 磁性溅射靶材透磁率测试方法 2016-07-11发布 2017-01-01实施 中华人民共和国工业和信息化部 发 布 前言 本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。 本标准起草单位:有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院。 本标准主要起草人:罗俊锋、万小勇、向磊、丁照崇、李勇军、何金江、徐国进、夏乾坤、刘晓、王越。 磁性溅射靶材透磁率测试方法 1 范围 本标准规定了磁控溅射用磁性靶材透磁率的术语和定义、检测设备、检验过程及结果计算等内容。 本标准适用于溅射薄膜用各类磁性靶材透磁率的检验。 2 术语和定义 下列术语和定义适用于本标准。 2.1 透磁率 passthroughflux PTF 直流磁场从磁性靶材一面透过另一面的比率,也称磁透率。 2.2 源磁场 sourcefield 使用霍尔探头高斯计测量的贴近载物台上表面的磁场,为直流磁场,单位为Gs。 2.3 参考磁场 referencefield 载物台预置靶材的上表面位置的磁场,其强度取决于霍尔探头到源磁体的距离。 2.4 测量磁场 measuringfield 溅射靶材置于载物台后靶材的上表面位置的磁场。 3 检测设备 透磁率检测设备主要包括源磁体、载物台、高斯计和霍尔探头等,设备放置在无铁磁性材料或外部 强磁场干扰的环境中。示意图如图1所示。 3.1 源磁体 源磁体为马蹄形永磁铁,固定到载物台的下方,并保持稳定。源磁体两极平行于载物台表面。调整 源磁体距离载物台的位置,使霍尔探头高斯计测得的源磁场强度为825Gs±50Gs。 3.2 高斯计 高斯计是透磁率(PTF)检测的核心设备,附带有横向场霍尔探头。高斯计直流磁场测量范围为0~ 3500Gs,精确度为±2%。霍尔探头在源磁体两极正中位置,如图1a)所示。霍尔......

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相关标准: GB/T 1425|YS/T 1615|YS/T 1490|YS/T 1161.4|