路径: 主页 > YS/T > 第32页 > YS/T 1160-2016 | 标准编号 | YS/T 1160-2016 (YS/T1160-2016) | | 中文名称 | 工业硅粉定量相分析 二氧化硅含量的测定 X射线衍射K值法 | | 英文名称 | Silicon powder-quantitative phase analysis. Determination of silicon dioxide content. Value K method of X-ray diffraction | | 行业 | 有色冶金行业标准 (推荐) | | 中标分类 | H12 | | 国际标准分类 | 29.045 | | 字数估计 | 7,742 | | 发布日期 | 2016-07-11 | | 实施日期 | 2017-01-01 | | 引用标准 | GB/T 8170 | | 标准依据 | 工业和信息化部公告(2016年第37号);行业标准备案公告2016年第11号(总第203号);工业和信息化部公告2017年第23号 | | 发布机构 | 工业和信息化部 | | 范围 | 本标准规定了工业硅粉中二氧化硅含量的测定方法。本标准适用于工业硅粉中二氧化硅含量的测定，测定范围为≥1%。 | YS/T 1160-2016
ICS 29.045
H12
中华人民共和国有色金属行业标准
工业硅粉定量相分析
二氧化硅含量的测定
X射线衍射K 值法
ValueK methodofX-raydiffraction
2016-07-11发布
2017-01-01实施
中华人民共和国工业和信息化部 发 布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。
本标准起草单位:昆明冶金研究院、广州有色金属研究院、国家有色金属及电子材料分析测试中心、
云南永昌硅业股份有限公司、通标标准技术服务有限公司。
本标准主要起草人:李和平、胡耀东、袁威、金自钦、高珺、杨林、张晶、王书明、李扬、王钟颖、王建波。
工业硅粉定量相分析
二氧化硅含量的测定
X射线衍射K 值法
1 范围
本标准规定了工业硅粉中二氧化硅含量的测定方法。
本标准适用于工业硅粉中二氧化硅含量的测定,测定范围为≥1%。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 8170 数值修约规则与极限数值的表示和判定
3 方法原理
当X射线照射晶体物质时,将产生衍射,每种晶体物质都有其特定的衍射特征。在一定的条件下,
混合物质中某物质所产生的衍射强度与含量成正比。测量衍射线强度,当被测物质与已知含量的参考
物质的衍射线强度确定后,可对被测物质进行定量分析。
4 试剂与材料
4.1 无水乙醇,分析纯。
4.2 参考物质α-Al2O3,分析纯。
4.3 SiO2,分析纯。
4.4 毛玻璃,毛面厚度0.1mm,面积不小于8cm×8cm。
5 仪器与设备
5.1 X射线衍射仪。
5.2 分析天平,感量为0.1mg。
5.3 玛瑙研钵。
5.4 样品框架。
6 样品制取
α-Al2O3、SiO2 与试样应能通过0.0374mm标准筛。
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