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[PDF] GB 50685-2011 - 英文版

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GB 50685-2011 英文版 1739 GB 50685-2011 [PDF]天数 >=10 电子工业纯水系统设计规范(不含条文说明) 有效
基本信息
标准编号 GB 50685-2011 (GB50685-2011)
中文名称 电子工业纯水系统设计规范(附条文说明)
英文名称 Code for design of pure water system of electronic industry
行业 国家标准
中标分类 P82
国际标准分类 93.020
字数估计 79,762
发布日期 2011-05-12
实施日期 2012-05-01
引用标准 GB 50013; GB 50016; GB 50034; GB 50052; GB/T 50109; GB 50140; GB/T 11790
标准依据 住房和城乡建设部公告第1028号
发布机构 中华人民共和国住房和城乡建设部;中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
范围 本规范适用于街建、扩建和改建的电子工业纯水系统的工程设计。

GB 50685-2011: 电子工业纯水系统设计规范(不含条文说明) GB 50685-2011 英文名称: Code for design of pure water system of electronic industry 1 总 则 1. 0. 1 为确保电子工业纯水系统出水满足电子产品生产工艺要求,确保电子工业纯水系统的设计做到技术先进、安全适用、经济合理、操作方便,制定本规范。 1. 0. 2 本规范适用于新建、扩建和改建的电子工业纯水系统的工程设计。 1. 0. 3 电子工业纯水系统设计应贯彻执行国家的技术经济政策,合理选择水源,节约能源,节约用水,节约用地,保护环境,安全卫生,提高经济效益。 1. 0. 4 电子工业纯水系统设计应根据主体工程建设规划、生产特点等综合确定,并应经技术经济比较,择优确定设计方案。当主体工程为分期建设时,纯水系统应按最终容量(规模)统一规划、合理布局、分期实施。 1. 0. 5 电子工业纯水系统的设计应为施工安装、维护管理、检修、检(监)测和安全运行创造必要的条件。 1. 0. 6 电子工业纯水系统的改建、扩建设计,应合理利用、改造原有设施。 1. 0. 7 纯水回收和节水设施宜与纯水制备系统统筹规划,并宜同时设计、同时施工、同时投运。 1. 0. 8 纯水系统排放的废水,应达到国家和地方排放标准后再排放。 1. 0. 9 电子工业纯水系统的工程设计,除应符合本规范外,尚应符合国家现行有关标准的规定。 2 术 语 2. 0. 1 电子工业纯水 pure water for electronic industry 电子工业生产所需的纯化水的通称,根据生产需要的水质去除生产所不希望保留的各种离子以及其他杂质的水。 2. 0. 2 电子工业纯水系统 pure water system for electronic industry 制取和配送用于电子工业生产纯水的系统,通常包括纯水制备、纯水的输送和分配、纯水的回收和处理的系统。 2. 0. 3 软化水 soft water 除掉部分或全部钙、镁离子等后的水。 2. 0. 4 淤塞指数(SDI) silt density index 保证反渗透正常运行的进水水质重要指标,它通过被测水样对0. 45μm滤膜的淤塞程度间接表征造成反渗透膜面堵塞的水中微量悬浮物、胶体的含量,又称污染指数FI。 2. 0. 5 电阻率 resistivity 度量水溶液阻止电流通过的能力,等于在一定温度下,一对截面积为1cm2的电极在1cm距离间的电阻值,其单位为Ω·cm或MΩ·cm。 2. 0. 6 电导率 conductivity 度量水溶液导电的能力,等于电阻率的倒数,其单位为μs/cm或s/cm。 2. 0. 7 总有机碳(TOC) total organic carbon 水中溶解性和悬浮性有机物中碳的总量,反映水中有机物含量的指标。 2. 0. 8 微滤(MF) microfiltration 通常指在外压作用下,利用筛网状过滤介质膜的“筛分”作用进行分离的膜分离技术。 2. 0. 9 超滤(UF) ultrafiltration 通常指在外压作用下,利用非对称性膜去除水中亚微米悬浮物的膜分离技术。超滤能截留分子量范围为几百至几百万的溶质和微粒,多为大分子有机物和胶体。 2. 0. 10 反渗透(RO) reverse osmosis 在外加压力作用下,利用一种半透性薄膜使水分子和其他一些物质选择性透过,从而将绝大部分悬浮物和绝大部分溶解固形物(盐)截留去除的膜分离技术。 2. 0. 11 电脱盐(EDI) electrodeionization 一种利用装填阳、阴混合离子交换树脂或离子交换无纺布,在直流电场作用下连续去除水中离子而不需要专门再生的除盐装置的统称。 2. 0. 12 紫外线杀菌 UV sterilization 通过波长254nm的紫外线照射杀灭水中的活菌为紫外线杀菌装置。 2. 0. 13 紫外线除有机碳 UV-TOC Removal 通过波长185nm的紫外线照射分解纯水中的微量TOC为紫外线除TOC装置。 2. 0. 14 膜脱气装置(MDG) membrane degasifier 利用膜分离技术降低水中挥发性溶解物质的装置,在电子工业纯水系统中主要是脱除纯水中的溶解氧。 2. 0. 15 供水环路 distribution loop 为保证电子工业最终使用点的纯水水质和水压而采用的有附加循环水量的不间断供水方式,最终使用点用水取自从终端过滤器到纯水水箱之间的闭合供水环路。供水环路一般由纯水精处理系统和供、回水管路共同组成。 2. 0. 16 背压调节阀组 back pressure regulation unit 设于纯水回水管路末端,通过调节阀通径大小的变化来维持、调节纯水供回水管路压力的调节阀组。 3 纯水制备工艺 3. 1 一般规定 3. 1. 1 电子工业纯水系统应根据电子产品生产工艺要求,合理解定纯水制备系统的规模和供水水质。 3. 1. 2 电子工业纯水系统制水流程和设备的选择应根据对纯水水质的要求、原水水质以及运行管理水平,并结合处理效果、原水的利用率、节能、环保等因素,经技术经济比较确定。 3. 1. 3 电子工业纯水系统应根据最终产品水水质要求选择简捷、有效的处理流程和可靠的处理设备。 3. 1. 4 纯水站的产水量应根据各类产品水量加系统自用水量确定。 3. 1. 5 电子工业纯水系统设计前应取得全部可利用水源的水质全分析资料,并应选择有代表性的水质分析资料作为设计依据。水质全分析报告格式应符合本规范附录A的要求。水质资料的获取应符合下列要求: 1 水源为地表水时宜取得全年逐月水质资料。 2 水源为地下水时宜取得全年每季的水质资料。 3 当无法得到逐月或逐季资料时,应掌握水质随季节的变化规律。 3. 1. 6 对可能受到海水倒灌或其他因素影响的水源,应掌握由此而引起的水质变化情况。对于来自生产过程中的回用水,应掌握其来源与组成。 3. 1. 7 电子工业纯水制备系统应由预处理、脱盐及深度处理和精处理组成,各阶段达到的目标应符合下列要求: 1 预处理阶段水质应满足脱盐装置进水水质的要求。 2 脱盐及深度处理阶段产水水质应接近最终产水水质要求。 3 精处理阶段应保证不间断地满足最终产水水质、水量和水压等要求。 3. 1. 8 系统设计中每个水处理装置的出水水质应满足后续处理装置的进水水质要求,水处理装置的进水水质应根据制水设备的要求确定。水质要求较高或有多项水质指标时尚应符合最终水质的要求。 3. 2 预 处 理 3. 2. 1 预处理系统需要达到的水质指标应根据所选脱盐装置的进水水质要求确定,缺乏资料时可按表3. 2. 1选择。脱盐处理单元采用反渗透工艺时,预处理系统应根据水质特点采取有效防止结垢等化学污染,以及防止生物、有机物及铁锰金属离子等污染的措施。 3. 2. 2 原水浊度较高时宜采用凝聚澄清过滤工艺,设计参数可按现行国家标准《室外给水设计规范》GB 50013的有关规定执行;原水采用含低密度、疏水性悬浮物较高的地面水水源时,宜加设气浮分离工艺;原水采用城市自来水时,宜采用微絮凝过滤、微滤或超滤等处理工艺。纯水系统预处理设计应符合下列要求: 1 过滤器的设计产水量应包括后续处理装置要求的供水量及过滤器的自耗水量。过滤器台数不宜少于2台。 2 过滤器的过滤周期应根据进出口水质、滤料截污能力等因素确定。每台设备每昼夜反洗次数宜为1次~2次。 3 絮凝剂的选用和加药量的确定应根据进水浊度、水温、pH值及碱度等因素的影响,以及相似水质的工程运行经验或试验资料,经技术经济比较后确定。 4 絮凝剂投加点宜设置于原水加压泵吸入段或在进入过滤器前设置静态混合器。 5 微絮凝聚过滤的过滤器的设计参数可根据表3. 2. 2-1的要求选用,过滤器采用气水反洗时设计参数可根据表3. 2. 2-2的要求选用。 6 采用微滤、超滤除浊时,应采取完善的自动反洗和化学清洗措施。微滤、超滤前宜设置预过滤器,其过滤精度可根据所选用的微滤和超滤产品的进水水质要求确定。 7 微滤、超滤和活性炭过滤并用时,活性炭过滤应置于微滤、超滤之后。 3. 2. 3 原水中铁锰含量不能满足后续装置进水要求时,应采取除铁锰措施,设计参数可按现行国家标准《室外给水设计规范》GB 50013的有关规定执行。 3. 2. 4 活性炭过滤器应根据进水水质、处理要求和活性炭的种类进行设计。活性炭过滤器的设计参数可按表3. 2. 4的要求确定。活性炭过滤器用于去除游离余氯时,可取较高滤速;去除有机物时,可取较低滤速。 3. 2. 5 防止反渗透膜结垢的设计应符合下列要求: 1 采用投加阻垢剂防止反渗透设备结垢时,应根据原水水质和药剂的技术说明选择药剂品种和投加量。 2 采用钠离子交换软化或复床式离子交换降低原水的硬度和碱度时,离子交换器的设计参数可按本规范附录B的要求选用。 3 采用调节PH值降低碳酸盐硬度时,宜采用盐酸。 3. 2. 6 采用药剂氧化法降低有机物和抑制微生物时,其加氯量应根据原水中的有机物含量计算。对经过混凝沉淀及过滤处理后的原水或清净的地下水,加氯量可采用0. 5mg/L~1. 0mg/L。 3. 2. 7 原水经氧化处理或原水余氯含量超过后续处理装置的进水要求时,应采用活性炭吸附或投加还原剂等方法进行脱氯处理。 3. 2. 8 当冬季原水水温较低时进入反渗透装置前是否提高水温,应根据制水量、产品水的水温要求、热源供应及加热成本等因素综合比较确定。当选择换热设备时,宜采用板式换热器。其设置位置应根据预处理各单元装置对水温的要求确定。 3. 3 脱盐及深度处理 3. 3. 1 脱盐系统的选择应根据处理水量、进出水质的要求,经技术经济比较确定。当产品水对微粒、TOC等水质指标有要求时,宜选反渗透处理工艺。 3. 3. 2 反渗透装置的设置应符合下列要求: 1 反渗透装置不宜少于2套,每套反渗透装置的保安过滤器、反渗透给水泵宜独立设置。 2 反渗透装置前应设置过滤精度不小于5μm的保安过滤器,并应设置清洗设施。 3 反渗透装置应有流量、压力、温度等控制措施。反渗透高压泵进口应设置低压保护开关,出口应设置止回阀和高压保护开关。反渗透装置宜采用高压泵变频启动或在高压水泵出口设置电动慢开阀门等稳压装置。当几台反渗透装置出水并联连接时,每台装置出水管上应设置止回阀。反渗透装置出口背压应符合所选用膜件的设计要求。 4 反渗透装置宜按连续运行设计,停运时应采取冲洗保护措施。 5 反渗透装置在线化学清洗应能逐段单独进行。在线清洗装置宜设加热装置。 6 保安过滤器、反渗透高压泵宜选用不锈钢材质。 7 采用两级反渗透时,进入第二级反渗透之前宜作pH调节。 3. 3. 3 离子交换装置的设置应符合下列要求: 1 当水质较稳定、出水量不大时,初级处理系统中阳、阴离子交换器应采用单元制串联系统,且阴离子交换器的树脂装填量应为计算值加10%~15%的裕量。 2 当进水水质变化较大、出水量大时,初级处理系统中阳、阴离子交换器宜采用母管并联制系统,每台离子交换器进出口应设置手动隔离阀。 3 离子交换除盐系统中顺流再生固定床、逆流再生固定床、浮动床、双层床和满室床的选用,应根据处理水量、进水水质条件和出水水质要求进行技术经济比较后确定。浮动床宜用于制水量大、连续运行的系统。 4 使用强酸、强碱离子交换树脂的初级复床除盐有关床型适用进出水水质,可按表3. 3. 3的要求确定。采用弱型树脂与强型树脂串联工艺或用双层床组成复床时,系统进水水质条件可放宽,具体适用的进水水质条件应通过技术经济比较确定。 5 弱酸、弱碱离子交换树脂的使用应根据进水水质条件合理选择。当碳酸盐硬度较高、碳酸盐硬度与总阳离子之比大于0. 5时,宜采用弱酸阳离子交换树脂;当强酸阴离子含量大于2mmol/L、强酸阴离子与弱酸阴离子之比大于2或有机物含量高时,宜采用弱碱阴离子交换树脂。在强、弱型离子交换树脂层高合适时,可选用双层床或双室离子交换器。 6 离子交换树脂的工艺性能数据应根据设计工况条件,按树脂生产厂家提供的产品性能参数或类似设计工况条件下的实际运行资料确定。必要时也可通过模拟试验确定。 7 离子交换装置的设计参数可按本规范附录B的要求设计。 8 阳、阴离子交换器工作周期宜按每昼夜再生1次~2次设计。 9 采用强酸、强碱离子交换树脂的固定床交换器,交换器的再生方式应经技术经济比较确定。当进水总含盐量大于150mg/L、总阳离子含量大于100mg/L(CaCO3)、强酸阴离子含量大于100mg/L(CaCO3)时,宜采用逆流再生方式。 10 离子交换器的交换树脂层高,应通过计算确定,树脂层高度不宜低于1. 0m。混合离子交换器的阳、阴树脂比例宜为1:2。 11 无石英砂垫层的离子交换器出口应设置树脂捕捉器。 12 采用双室床、浮动床或满室床离子交换器时,应分别设置阳、阴离子交换树脂清洗罐。 3. 3. 4 二氧化碳器或真空除气器的填料层高度,应根据填料品种和尺寸,进、出水二氧化碳含量,水温以及所选定淋洒密度下的实际解析系数等因素经计算确定。 3. 3. 5 电脱盐装置的设置应符合下列要求: 1 电脱盐装置的进水水质要求应根据设备要求确定,缺乏资料时,可按本规范表3. 2. 1的要求确定。 2 电脱盐装置不宜少于2套,其浓水宜回收至反渗透系统进水。 3. 3. 6 深度脱盐的混合床离子交换器,宜采用氮气混合离子交换树脂。 3. 3. 7 脱氧膜设备和纯水储罐气封氮气的纯度,不应低于99. 999%。 3. 3. 8 紫外线灭菌器后应安装灭活细菌过滤器,过滤精度不宜低于0. 45μm。TOC UV后应设置混床离子交换器或抛光混床离子交换器。 3. 4 精 处 理 3. 4. 1 最终纯水水质要求较高时,精处理系统应与车间供水管道构成循环供水系统。 3. 4. 2 系统设备的设计流量应按产水量与循环附加流量之和计算。 3. 4. 3 精处理混合床应符合下列要求: 1 应采用非再生式离子交换树脂。 2 离子交换树脂应根据水质要求选择。 3 离子交换器滤速宜为40m/h~60m/h。 3. 4. 4 最终用水有不同水温要求时,应在精混床后分别换热供水,热纯水回水应进行降温处理。 3. 4. 5 精处理系统的最终出水管上应根据水质要求设置相应的在线水质监测仪表。未配置在线水质监测仪表时,应备有采样口。 3. 5 特殊水质指标的技术措施 3. 5. 1 纯水水质对微粒、总有机碳、细菌、溶解氧、二氧化硅及硼等特殊指标有要求时,系统的各个处理单元的设置中除应满足后续设备的进水水质要求外,还应满足对特殊指标的处理要求。 3. 5. 2 纯水水质对TOC有要求时,应根据水质要求采用下列措施: 1 在初级处理系统中应设置反渗透装置。 2 要求TOC小于20μg/L~50μg/L时,应设置紫外线除有机物装置。 3 应采用低TOC析出的离子交换树脂、管道、阀门及设备材料。 3. 5. 3 纯水水质含有溶解氧指标时,系统中应设置脱氧装置,其后所设的水箱均应采取氮封措施。脱氧装置宜采用膜脱气,并应根据水质要求经技术经济比较确定采用一处脱气处理或多处脱气处理。 3. 5. 4 最终微粒粒径要求不小于0. 1μm时,应在精处理阶段设置微孔过滤,要求小于0. 1μm时,宜设置超滤。 3. 5. 5 产品水水质指标有二氧化硅含量要求时,系统设计应采取凝聚过滤、活性炭吸附、微滤、超滤、反渗透、电脱盐、离子交换等除硅措施。系统中的强碱阴离子交换器和混合床宜按出水硅含量控制交换终点,阴离子交换树脂再生碱液宜加热,加热温度可为35℃~50℃。 3. 6 水箱、水泵 3. 6. 1 纯水制备系统的水箱材质选择应满足所贮存水的水质要求。水箱容积宜按下列要求确定: 1 原水箱、中继水箱容积宜满足连续运行的最大一台水泵2h~3h出力要求,同时应满足单台设备反洗或清洗一次的用水量要求。 2 除盐水箱、软化水箱总容积应满足使用点的用水量要求。水箱总容积宜大于1h的耗水量要求,同时应满足工艺系统需要的最大一次自用水量的要求。 3 除二氧化碳装置的水箱有效容积,单元串联系统宜为本单元设备出力的5min贮水量,且不宜小于2m3;并联系统宜为并联设备总出力的15min~30min贮水量,水量大时可设多台水箱及除碳器。 3. 6. 2 纯水制造系统过程中水的电阻率较高、防止二氧化碳溶入水中或有溶解氧要求时,水箱宜设置氮封保护。设置氮封保护的水箱溢流口应采取隔绝空气的措施。 3. 6. 3 氮封装置的供气量应大于或等于对应水泵组的最大输水量。氮封压力值可取0. 0005MPa~0. 001MPa(表压)。 3. 6. 4 纯水供水泵宜采用变频水泵。纯水使用点压力要求较高或输配管路较长时,宜加设中继泵。 4 纯水输送和分配 4. 1 一般规定 4. 1. 1 电子工业纯水的输配管路形式应根据供水水量、纯水水质、用水设备布置,以及使用点水压稳定性要求,结合技术经济比较选择同程式输配系统、异程式输配系统或单管循环等输配水方式,并宜符合下列要求: 1 对于小型纯水输配系统,当输水主管管径小于DN50且不超过15个用水点,对纯水水质要求不高或用水设备自身无回水要求时,宜采用单管循环输配系统。 2 对于大、中型纯水输配系统,水质要求较高但用水点对供水水压稳定性要求不严格,或用水点数不多且便于手动调节时,宜采用异程式输配系统。 3 对于大、中型纯水输配系统,水质要求高且用水点对供水水压稳定性要求严格,或用水点数多且不便于手动调节时,宜采用同程式输配系统。 4. 1. 2 管道、阀门、附件的选用应与纯水水质相匹配,并应满足纯水系统的使用条件,同时应与纯水系统的使用温度、消毒方式等相适应。 4. 1. 3 纯水输配管路根据不同纯水水质及使用条件要求可选择不锈钢管、聚氯乙烯、聚丙烯、洁净聚氯乙烯或聚偏二氟乙烯等管材。在纯水输配系统的某些部位,聚氯乙烯、聚丙烯、洁净聚氯乙烯或聚偏二氟乙烯等塑性管材不能满足强度和使用温度的要求时,可选择相应的不锈钢管材。 4. 1. 4 与纯水直接接触的设备内表面应光洁、平整,化学性质应稳定、耐腐蚀、易清洗、易消毒。 4. 1. 5 纯水输配系统的工作压力不得大于国家现行有关产品标准标称的允许工作压力。 4. 1. 6 热纯水的使用应根据水量和使用点的分布特点结合技术经济比较确定,可选择集中加热或使用点就地加热的方式供给。 4. 2 管道设计 4. 2. 1 纯水供、回水管路应采用架空敷设,并应做到安全可靠、经济合理、整齐美观,同时应满足施工、操作、维修等方面的要求。 4. 2. 2 管道穿过建筑物楼板或墙面时,应加套管,套管与管道间的空隙应密封。管道上的焊缝不应在套管内,距离套管端部不应小于150mm。套管应高出楼板50mm。 4. 2. 3 管道不应穿过防火墙或防爆墙;必须穿过防火墙或防爆墙时,应采取确保防火墙或防爆墙的既有功能又不受影响的措施。 4. 2. 4 纯水管路系统的布置应使管道系统具有必要的柔性。管路系统的热胀冷缩宜利用管道的自然形状达到自然补偿。 4. 2. 5 纯水管路系统采用独立设置的供、回水管路时,应保证每个用水点有适当的压差。 4. 2. 6 纯水管路系统的设计应避免死水滞留。死水滞留不可避免时,滞留段长度不宜大于管道公称直径的3倍。 4. 2. 7 纯水管路系统循环供水应符合下列要求: 1 循环附加水量宜为使用水量的20%~50%。 2 纯水供水管路流速不宜小于1. 5m/s,回水管路流速不宜小于0. 5m/s。 3 回水干管末端应设置背压阀组。 4. 2. 8 纯水对微粒有要求时,管路系统中经常启闭的阀门宜采用慢开阀。 4. 2. 9 纯水管路系统供、回水管上设置的流量计,宜采用超声波流量计和涡街流量计。 4. 2. 10 纯水管路系统中需要清洗、杀菌的部位,应设置清洗接口,清洗、杀菌时不宜通过的设备或装置应设旁通。 5 纯水回收和节水 5. 1 一般规定 5. 1. 1 电子工业纯水系统的设计应对整个工程项目的用水特点进行深入分析,并应对全厂的用水进行详细的水量平衡,宜按分质用水的要求,使各工序的排水能有效利用到纯水制备系统或其他对水质要求相对较低的工序或系统。 5. 1. 2 改建、扩建工程设计,对原有高水耗水处理工艺和设备应予以改造后采用或更新。 5. 1. 3 在缺水城市和地区,应按当地有关规定采用严格的节水措施。 5. 2 纯水回收 5. 2. 1 纯水回收设计应与电子产品生产工艺设计密切配合,并应根据工程实际情况、回收水质、水量,结合当前的技术、经济条件等合理确定回收率,并宜符合下列要求: 1 应用于集成电路生产的超纯水系统,其纯水回收率不宜低于75%。 2 应用于集成电路封装测试生产线的纯水系统,其背面减薄废水和划片废水应予回收利用。 3 应用于TFT-LCD生产线的超纯水系统,其纯水回收率不宜低于50%。 5. 2. 2 经管路系统收集的用后纯水应连续检测其电导率、pH值和TOC,当检测值符合回用要求时,应予以回用;不符合回用要求时,应将其排放至废水处理系统。 5. 2. 3 回收水处理系统流程的拟定和设备的选择,应根据工程的 具体情况、回收水水质、水量以及处理后的用途等因素综合确定。当不能取得回收水水质资料时,可按已建同类工程经验或经科学实验后确定。 5. 3 节水措施 5. 3. 1 水处理单元排水回收再用,其设计应符合下列要求: 1 水质应符合相应用途的水质要求。 2 应重复使用或根据用水水质要求不同顺序,使用于水处理系统或水处理单元。 3 应根据拟回收水量和需水量进行全厂范围内的水量平衡计算。 4 应设置相应的调储设施。 5 当回收水量不能满足需求水量要求时,可补充新鲜水。 5. 3. 2 在大中型纯水制备系统中,下列排水应回收至纯水制备系统: 1 多介质过滤器、活性炭过滤器反洗末段的清洗水和预过滤阶段的出水。 2 阴、阳离子交换器再生末段的清洗水。 3 混合床离子交换器再生末段的清洗水。 4 EDI的循环浓水排水。 5 精处理系统末端超滤装置排放浓水。 5. 3. 3 下列排水应予以回收至纯水制备系统: 1 溶解氧分析仪排水。 2 颗粒计数仪排水。 3 总有机碳分析仪排水。 5. 3. 4 设备冷却水应循环使用。采用直流且为新鲜水时,应回收利用。 5. 3. 5 换热设备的蒸汽凝结水应予回收利用。 5. 3. 6 纯水站应对耗用的自用水量进行计量。 6 纯水站房 6. 1 一般规定 6. 1. 1 纯水站房的总平面布置应符合厂区总体规划的要求,并应符合下列要求: 1 应靠近主要用水设备。 2 环境卫生条件应良好。 3 应有方便的交通、运输和水电条件。 4 分期建设时,应有扩建余地。 6. 1. 2 纯水站房宜与其他建筑物合建;合建建筑物为多层时,纯水站宜设于地上一层或二层。 6. 1. 3 纯水站房设计应满足主要水处理单元运行观察、流量计量、水质监(检)测,以及水质取样等必要要求。 6. 1. 4 需经常监视或操作的设备、仪表、阀门、取样装置等,应布置在便于监视操作的部位。 6. 1. 5 纯水站内管道应用不同标识标明管内介质种类及流向。 6. 1. 6 设备或管道结露影响环境,引起设备或物品受损害时,设备或管道应作防结露保冷层;防结露保冷层的设计和构造,应符合现行国家标准《设备及管道保冷技术通则》GB/T 11790的有关规定。 6. 1. 7 操作气动阀门和混合离子交换树脂的气源应经除油、干燥处理,并宜设置稳压装置。 6. 1. 8 在使用腐蚀性和有毒化学药剂的场所,必须设置紧急淋浴洗眼器等安全防护设施,并应符合下列要求: 1 在一般性有毒、有腐蚀性的化学药剂装卸、贮存和使用区域内,紧急淋浴洗眼器应按20m~30m设置一个。 2 在剧毒、强腐蚀性以及酸、碱化学药剂装卸、贮存和使用区域内,紧急淋浴洗眼器必须设置在事故易发处3m~6m内,并应避开化学药剂喷射方向布置。 3 紧急淋浴洗眼器应同层设置,不得越层使用。通向紧急淋浴洗眼器的通道应畅通无阻。 6. 1. 9 站内明沟应设置盖板。 6. 1. 10 在纯水站房化学药剂贮存和装卸区域,必须采取防止泄漏的化学药剂漫流或进入室外雨水管网、污水管网的措施。 6. 2 设备布置 6. 2. 1 设备布置应适应生产工艺调整的灵活性,并应满足电子产品生产工艺技术改造和扩大生产规模的需求。 6. 2. 2 设备布置应综合协凋运行操作、施工安装、维修、公用动力管线及各种技术设施的需求,并应符合下列要求: 1 应按水处理工艺流程顺序和设备功能分区有序布置。 2 应布置合理、紧凑。 3 应减少对主操作区的噪声干扰。 4 精处理或终端处理系统宜靠近主要用水设备。 6. 2. 3 纯水站应设置必要的辅助间,其组成和面积应根据水站规模、企业的生产管理要求等确定。 6. 2. 4 空气压缩机、鼓风机等高噪声设备,宜布置在单独房间内,并应采取减噪措施。 6. 2. 5 水处理设备布置在室外时,其运行操作部位及阀门、仪表、取样装置等宜集中布置,并应根据当地气候情况采取相应的防冻、防雨、防晒、防风等保护措施。 6. 2. 6 反渗透装置的两端,应有足够的装卸膜元件的操作空间。 6. 2. 7 在地面上不便操作、检修的水处理设备和阀门等,应设置操作扶梯、检修平台和起吊装置。 6. 2. 8 酸碱等药剂贮存、配制设备区应避开人流通道,宜靠近制水区及货运入口。 6. 2. 9 酸碱等药剂贮存、配制设备区,应设置防护围堤,堤内设备基础、地面、排水沟等应采取严格的防腐、防渗处理;不能满足排放标准的地面排水应纳入废水处理系统进行处理。 6. 2. 10 设备间应有足够的操作维修通道和必要的安全距离。主要操作通道的净距不宜小于2. 0m,辅助操作通道的净距不宜小于0. 8m,设备之间的净距不宜小于0. 6m。通道均应适合维修的需要。 6. 2. 11 控制室和化验室应布置在通风采光良好且噪声、震动较小的部位,并宜设置空气调节装置。纯水站房内的控制室、化验室,不宜与高压配电室、鼓风机房和化学药剂间毗邻设置。 6. 2. 12 化学药剂贮存、配制、装卸、转输等设备的布置,应符合有关安全规定。 6. 2. 13 改建、扩建工程的设备布置,应符合下列要求: 1 应改善原有不合理的布局和不良运行条件。 2 应合理利用、改造原有设施。 3 应减少对原有系统运行的影响。 4 应与原有设备布置相协调。 6. 3 管道布置 6. 3. 1 管道布置应符合下列要求: 1 应合理安排、组织好各类管道的走向、安全距离。 2 应管线短、附件少,并应整齐美观。 3 应便于安装、操作和维修。 4 不应影响交通运输和设备起吊。 5 管道布置应避免液袋和气袋;无法避免时,应根据操作、检修的要求设置放空、放净。 6 在管架上敷设的管道,净距不应小于50mm,法兰外缘与相邻管道的净距,不应小于25mm。 7 管道外壁或管道隔热层外壁距临近管架、构架柱壁或建筑外壁等的净距,不应小于100mm。 8 管道上安装有特殊管件、仪表测量元件或小型设备时,应根据实际需要加大管道间的净距。 6. 3. 2 必须跨越人行通道的管道,其净高不应低于2. 2m。 6. 3. 3 腐蚀性介质、有毒介质管道架空敷设时,应避免法兰、螺纹等易泄漏部位置于人行通道或设备上方。 6. 3. 4 酸碱液管道严禁敷设在配电盘、控制盘等电气设备上方。 6. 3. 5 管道不宜穿越伸缩缝,沉降缝或变形缝。必须穿越时,对于非纯水管道,可在设计压力和输送介质允许情况下设置补偿器等装置提高管路的补偿能力;对于有较高水质要求的纯水管路,应通过改变管路走向等方式增强管路的自然补偿能力。 6. 3. 6 设于室内的鼓风式二氧化碳脱气塔的排气管应用管道引至室外,排风口宜设置汽水分离装置。 6. 4 土 建 6. 4. 1 纯水站房的跨度、柱距和层高等除有特殊要求外,宜按建筑统一模数设计。 6. 4. 2 纯水站房的高度应根据设备吊装所需空间、设备接口高度、管道、桥架安装标高以及检修维护需求确定。设备最上部部件与站房顶板梁底的净距不宜小于0. 8m。 6. 4. 3 纯水站房楼地面的荷载应根据工艺设备安装和检修的要求确定。 6. 4. 4 纯水站房的出、入口应便于操作人员通行,并应至少有一个门能满足纯水站房内设备的最大检修部件出入要求。 6. 4. 5 站房内的设备检修需要使用车辆等运输工具时,纯水站房门的高度和宽度应满足车辆等运输工具通行的需要。 6. 4. 6 两层和两层以上的纯水站房应按设备检修部件的大小设置吊装孔和通道。吊装孔的位置应设置在出入口附近和便于搬运的区域。 6. 4. 7 纯水站房内设备吊装平台、高位平台,以及水池、罐顶和坑洞边缘距相邻楼板或地面高度1. 2m及以上时,其周围的开敞边缘应设置防护栏杆。设备吊装平台、高位平台,以及水池、罐顶和坑洞边缘使用工具或其他物品时,应在其周围的开敞边缘设置带踢脚板的防护栏杆,并应符合下列要求: 1 开敞边缘距相邻楼板或地面的高度小于2m时,防护栏杆的高度不应小于900mm。 2 开敞边缘距相邻楼板或地面的高度大于等于2m且不超过20m时,防护栏杆的高度不应小于1050mm。 3 开敞边缘距相邻楼板或地面的高度大于等于20m时,防护栏杆的高度不应小于1200mm。 6. 5 电 气 6. 5. 1 纯水站房内的供电负荷级别和供电方式,应根据工艺要求、环境特征等因素确定,并应符合现行国家标准《供配电系统设计规范》GB 50052的有关规定。 6. 5. 2 电机、启动控制装置、灯具和导线型式的选择,应与纯水站房内不同区域的环境特征相适应。现场的配电柜宜采取必要的防水、防腐措施。 6. 5. 3 纯水制备系统宜设置专用的配电箱。 6. 5. 4 纯水站房及构筑物工作面上照度值的确定,应符合现行国家标准《建筑照明设计标准》GB 50034的有关规定。 6. 5. 5 在纯水站房的主要位置及通道,宜设置应急照明。 6. 6 采暖通风 6. 6. 1 纯水站房内工作地点的夏季环境温度,应根据设备散热量的大小确定,并应符合现行国家有关工业企业设计卫生标准的规定。 6. 6. 2 设置集中采暖的纯水站房内,值班室、控制室和分析室等冬季室内计算温度不宜低于18℃,其他区域的冬季室内计算温度不宜低于10℃。 6. 6. 3 纯水站房内放散有害物质的设备应采用局部排风;当局部排风达不到卫生要求时,应辅以全面排风。 6. 6. 4 化学药剂间应设置机械通风,并应分别在室内外便于操作的地点设置应急启动按钮。 6. 6. 5 采用全面排风时,宜采用自然通风。自然通风不能满足卫生、环保或生产工艺要求时,应采用机械通风或自然与机械联合通风。 6. 7 给水排水和消防 6. 7. 1 纯水站内的生活给水可采用一路供水。给水系统同时供给紧急淋浴洗眼器时,应采取可靠的保障措施。 6. 7. 2 纯水站房内高于40℃的排水不得直接排入室外排水管网。 6. 7. 3 防火设计应符合现行国家标准《建筑设计防火规范》GB 50016,《建筑灭火器配置设计规范》GB 50140的有关规定。 7 药品贮存、计量和输送 7. 1 一般规定 7. 1. 1 药品贮存量应根据药品的消耗量、供应情况、包装和运输条件等因素确定,宜按10d~30d消耗量计算确定。药品由本地供应时,可适当减少贮存天数。 7. 1. 2 药品贮存间的设计应符合下列要求: 1 药品贮存间宜靠近厂区主要道路。 2 房间应有良好的通风和排水条件,其墙面和地面应采取有效的防腐措施。 7. 1. 3 药品的存放应符合下列要求: 1 药品应分类保存在通风、干燥、远离热源处,且宜放在平台或垫板上,不同品种药品应设有明显标志,并应分类存放。 2 药品干贮存时,其堆积高度宜为1. 5m~2. 0m。 3 药品湿贮存时,贮槽应设置盖板或护沿。 7. 1. 4 药品贮存间应根据药品的性质、贮存及使用条件设置安全防护措施。 7. 1. 5 药品贮存、配置、投加、计量设备和输送管道以及建筑物,应采取相应的防水、防腐、通风、除尘、采暖和冲洗等措施。 7. 1. 6 不同离子交换器宜设置专用酸、碱再生计量设备。 7. 2 酸、碱及盐 7. 2. 1 酸、碱及盐等药剂的装卸和贮存设备,应采取安全和事故紧急排放、检修及清洗的措施。装卸及贮存设备应设置防护及水冲洗设施。 7. 2. 2 盐酸贮槽宜采用液面密封设施,排气口应设置中和、吸收处理设施。浓硫酸贮槽排气口宜装设除湿器。高纯度碱贮槽排气口宜设置二氧化碳吸收器。 7. 2. 3 装卸输送浓酸、碱液体,可采用负压抽吸泵输送或重力自流,不宜采用压缩空气输送。化学药剂采用固体碱及盐时,应设置吊运和溶解设备。 8 控制及仪表 8. 1 一般规定 8. 1. 1 电子工业纯水系统的设计应按系统规模、出水水质、制水工艺、设备选型等技术因素结合经济条件、运行管理水平等要求确定合适的自动化程度,设计与选配控制系统和现场测量仪器仪表。 8. 1. 2 电子工业纯水系统的自动控制设计,应同时保证手动控制装置操作的可能。 8. 1. 3 电子工业纯水系统应根据制水工艺、制水设备及其介质输送系统的特点及监控功能需求情况,确定测量与控制对象、内容和控制参数,选择相应的监控系统,配置控制装置和现场传感器、变送器、阀门和执行机构等外部设备。 8. 1. 4 现场仪表应按介质输送系统和制水设备的控制参数,选配压力、液位、流量、温度传感器及其显示与控制仪表。 8. 2 纯水系统监控系统设计选型 8. 2. 1 纯水系统监控系统应按纯水制备过程测量与控制技术指标、控制对象及范围、联锁控制等技术条件和监控功能的需求,选择监控系统的类型。 8. 2. 2 小型监控系统宜采用集中式控制系统,选用具有配套控制装置的成套制水设备,并宜设置自动与手动工作模式,设计时可不再另行选配控制系统。 8. 2. 3 大、中型监控系统应采用集散型控制系统,有条件时宜选用现场总线型控制系统。 8. 2. 4 纯水系统现场仪表、在线测量仪器、传感器、变送器、阀门、执行机构以及制水设备专用控制器等设计选型,应与所采用的监控系统类型相配套。 8. 3 现场控制系统及集中监控系统设计 8. 3. 1 纯水系统现场控制系统应根据预处理、脱盐处理、精处理工艺设备及其过程测量与控制单元,按集散型控制系统现场控制站的区划,分区设计现场控制装置。 8. 3. 2 纯水制备系统控制装置的设计,应符合下列要求: 1 纯水制备系统应按相应制水设备的工艺规程和流量、压力、温度、水质等控制参数与技术指标,分区(段)设计控制装置。 2 纯水制备系统现场控制装置应采用可编程控制技术对制水设备运行状态进行控制、检测与监视,运行参数设定与调控,以及故障与越限报警、数据传输通信。 8. 3. 3 液体化学品输送加药系统控制装置的设计应符合下列要求: 1 纯水制备过程用液体化学品的贮存与输送系统的传输泵的启动与控制装置设计,应具有液位检测与显示、液位控制与越限报警等功能,并应与现场化学品计量槽液位开关相连锁。 2 液体化学品现场计量槽加药......

英文网页English: GB 50685-2011

相关标准: GB 51432 | GB 50646 | GB 50678 |