路径: 主页 > GB/T > 第460页 > GB/T 34971-2017 | 标准编号 | GB/T 34971-2017 (GB/T34971-2017) | | 中文名称 | 半导体制造用气体处理指南 | | 英文名称 | Guide for gaseous effluent handling in semiconductor industry | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | G86 | | 国际标准分类 | 71.040.40 | | 字数估计 | 20,239 | | 发布日期 | 2017-11-01 | | 实施日期 | 2018-02-01 | | 标准依据 | 国家标准公告2017年第29号 | | 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | GB/T 34971-2017
Guide for gaseous effluent handling in semiconductor industry
ICS 71.040.40
G86
中华人民共和国国家标准
半导体制造用气体处理指南
2017-11-01发布
2018-02-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
本标准起草单位.中昊光明化工研究设计院有限公司、西南化工研究设计院有限公司、高麦仪器公
司、广东华特气体股份有限公司、东莞市联臣电子科技有限公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、上海
市计量测试技术研究院。
本标准主要起草人.孙福楠、牛艳东、廖恒易、杜汉盛、王鸿、方华、陈鹰、周鹏云。
半导体制造用气体处理指南
1 范围
本标准规定了半导体制造用气体排放系统的原理及技术。
本标准适用于半导体制造用气体的处理。
2 术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
2.1
效率 efficiency
去除的化学物类与其投放量的比率(分数或比例)。
2.2
管道末端减排 end-of-pipeabatement
可在废气处理系统的排放点使用的减排技术。
2.3
使用点减排 point-of-useabatement
可在半导体工艺设备气体排放装置的排放点使用的减排技术。
2.4
去除能力 removalcapacity
一种物质可被去除的量。
3 缩略语
下列缩略语适用于本文件。
PFC.全氟化合物(Perfluorocompounds)
4 总则
4.1 众多工艺过程可能排放的气体混合物也可能在废气管中产生有害物质。
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