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[PDF] GB/T 4058-2009 - 英文版

标准号码	内文	价格美元	第2步(购买)	交付天数	标准名称	状态
GB/T 4058-2009	英文版	439	GB/T 4058-2009	[PDF]天数 >=4	硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法	有效

基本信息
标准编号	GB/T 4058-2009 (GB/T4058-2009)
中文名称	硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
英文名称	Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
行业	国家标准 (推荐)
中标分类	H80
国际标准分类	29.045
字数估计	19,184
发布日期	2009-10-30
实施日期	2010-06-01
旧标准 (被替代)	GB/T 4058-1995
引用标准	GB/T 1554; GB/T 14264; YS/T 209
标准依据	国家标准批准发布公告2009年第12号(总第152号)
发布机构	中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
范围	本标准规定了硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法。本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中诱生或增强的晶体缺陷的检测。硅单晶氧化诱生缺陷的检验也可参照此方法。

GB/T 4058-2009 Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers ICS ２９．０４５ H８０中华人民共和国国家标准 GB/T ４０５８-２００９代替GB/T ４０５８-１９９５硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法２００９-１０-３０发布２０１０-０６-０１实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会发布前言本标准代替GB/T ４０５８-１９９５《硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法》。本标准与GB/T ４０５８-１９９５相比，主要有如下变化： ---范围中增加了硅单晶氧化诱生缺陷的检验； ---增加了引用标准； ---增加了“术语和定义”章； ---将原标准中“表１　四种常用化学抛光液配方”删除，在第５章中对化学抛光液配比进行了修改，删除了乙酸配方；增加了铬酸溶液Ａ的配制、Ｓｉｒｔｌ腐蚀液及Ｗｒｉｇｈｔ腐蚀液的配制；增加了几种国际上常用的无铬、含铬腐蚀溶液的配方、应用及适用性的分类对比表； ---采用氧化程序替代原标准中的氧化的操作步骤；增加了（１１１）面缺陷的显示方法及Ｗｒｉｇｈｔ腐蚀液的腐蚀时间，将（１１１）面和（１００）面缺陷显示方法区分开了；（１００）面缺陷的显示增加了Ｗｒｉｇｈｔ腐蚀液腐蚀方法； ---在缺陷观测的测点选取中增加了“米”字型测量方法。本标准的附录Ａ为资料性附录。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。本标准起草单位：峨嵋半导体材料厂。本标准主要起草人：何兰英、王炎、张辉坚、刘阳。本标准所代替标准的历次版本发布情况为： ---GB ４０５８-１９８３、GB/T ４０５８-１９９５； ---GB ６６２２-１９８６、GB ６６２３-１９８６。 GB/T ４０５８-２００９硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法１　范围本标准规定了硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法。本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中诱生或增强的晶体缺陷的检测。硅单晶氧化诱生缺陷的检验也可参照此方法。２　规范性引用文件下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 GB/T １５５４　硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法 GB/T １４２６４　半导体材料术语ＹＳ/T ２０９　硅材料原生缺陷图谱３　术语和定义 GB/T １４２６４中规定的术语和定义适用于本标准。４　方法原理模拟器件工艺的氧化条件，利用氧化来缀饰或扩大硅片中的缺陷，或两者兼有，然后用择优腐蚀液显示缺陷，并用显微技术观测。５　试剂和材料５．１　三氧化铬，优级纯。５．２　氢氟酸，优级纯。５．３　硝酸，优级纯。５．４　氨水，优级纯。５．５　盐酸，优级纯。５．６　过氧化氢，优级纯。５．７　纯水，电阻率大于１０ＭΩ·ｃｍ（２５℃）。５．８　乙酸，优级纯。５．９　硝酸铜，优级纯。５．１０　清洗液１＃：水∶氨水∶过氧化氢＝４∶１∶１（体积比）。５．１１　清洗液２＃：水∶盐酸∶过氧化氢＝４∶１∶１（体积比）。５．１２　化学抛光液配比：ＨＦ∶ＨＮＯ３＝１∶（３～５）（体积比）。５．１３　铬酸溶液Ａ：称取５００ｇ三氧化铬于烧杯中，用水完全溶解后，移入１０００ｍＬ容量瓶中，用水稀释至刻度，混匀（见GB/T １５５４）。５．１４　铬酸溶液Ｂ：称取７５ｇ三氧化铬于烧杯中，加水溶解......

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