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[PDF] GB/T 44221-2024 - 英文版

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GB/T 44221-2024 英文版 479 GB/T 44221-2024 [PDF]天数 >=4 光学系统波前像差的测定 夏克-哈特曼光电测量法 有效
基本信息
标准编号 GB/T 44221-2024 (GB/T44221-2024)
中文名称 光学系统波前像差的测定 夏克-哈特曼光电测量法
英文名称 Determination of wavefront aberration in optical systems - Electro-optical Shack-Hartmann method
行业 国家标准 (推荐)
中标分类 L50
国际标准分类 17.180.99
字数估计 24,253
发布日期 2024-07-24
实施日期 2025-02-01
发布机构 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会

GB/T 44221-2024: 光学系统波前像差的测定 夏克-哈特曼光电测量法 中华人民共和国国家标准 ICS 17.180.99CCS L 50 光学系统波前像差的测定 夏克⁃哈特曼光电测量法 Determination of wavefront aberration in optical systems- Electro⁃optical Shack⁃Hartmann method 2024⁃07⁃24 发布 2025⁃02⁃01 实施 国 家 市 场 监 督 管 理 总 局 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 发 布 目次 前言·····Ⅲ 1 范围·····1 2 规范性引用文件····1 3 术语和定义·····1 4 测量原理及方法····2 4.1 测量原理·····2 4.2 光学系统波前像差测量方法····2 4.3 光学零件面形偏差的测量····3 5 测量条件····4 5.1 测量环境·····4 5.2 样品····4 6 设备及装置·····4 6.1 测量仪·····4 6.2 辅助镜头·····5 7 测量步骤····5 7.1 测量前准备····5 7.2 波前重构方法的选择···6 7.3 光路对准·····6 7.4 测量与数据的判定····6 8 测量数据处理·····6 9 测量报告····7 附录 A(资料性) 波前复原方法···8 附录 B(资料性) Zernike 多项式序列····11 附录 C(资料性) 测量报告···13 参考文献·····14 前言 本文件按照 GB/T 1.1-2020《标准化工作导则 第 1 部分:标准化文件的结构和起草规则》的规 定起草。 请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。 本文件由中国科学院提出。 本文件由全国光测量标准化技术委员会(SAC/TC 487)归口。 本文件起草单位:中国科学院苏州生物医学工程技术研究所、中国科学院光电技术研究所、中国标 准化研究院、中国科学院空天信息创新研究院、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、苏州慧利 仪器有限责任公司、中国计量科学研究院、长春奥普光电技术股份有限公司、浙江舜宇光学有限公司、 成都科奥达光电技术有限公司、苏州一光仪器有限公司、舟山市质量技术监督检测研究院。 本文件主要起草人:史国华、邢利娜、何益、杨金生、蔡建奇、王璞、刘春雨、韩森、洪宝玉、冯长有、 包明帝、叶虹、谢桂华、伍开军、沈晨雁、郝华东。 光学系统波前像差的测定 夏克⁃哈特曼光电测量法 1 范围 本文件描述了采用夏克 ⁃哈特曼法测量光学系统波前像差的原理及方法、测量条件、设备及装置、 测量步骤以及测量数据处理。 本文件适用于采用夏克 ⁃哈特曼法测量光学系统波前像差的测量,也适用于光学零件面形偏差的 测量。 2 规范性引用文件 本文件没有规范性引用文件。 3 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 3.1 波前 wavefront 光波传播时的等相位面。 [来源:GB/T 13962-2009,2.28] 3.2 波前像差 wavefront aberration 波前与理想波前的偏差。 [来源:GB/T 41869.2-2022,3.1,有修改] 3.3 面形偏差 surface form deviation 被测光学表面相对于参考光学表面的偏差。 [来源:GB/T 2831-2009,3.1] 3.4 波前重构 wavefront reconstruction 通过子孔径的斜率计算得到入射波前的相位分布的过程。 3.5 口径 diameter 仪器能够检测的光学零件或系统的通光孔径。 3.6 自准直法 autoco......

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