首页
购物车
询价
www.GB-GBT.com
收录标准: 222397 (2026-05-14)
路径:
主页
>
MISC
>
第131页
> JC/T 2133-2012
[PDF] JC/T 2133-2012 - 英文版
标准号码
内文
价格美元
第2步(购买)
交付天数
标准名称
状态
JC/T 2133-2012
英文版
289
JC/T 2133-2012
[PDF]天数 >=3
半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法
有效
基本信息
标准编号
JC/T 2133-2012 (JC/T2133-2012)
中文名称
半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法
英文名称
Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry. Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
行业
建材行业标准 (推荐)
中标分类
C14
国际标准分类
71.040
字数估计
11,195
引用标准
GB/T 602; GB/T 6682
标准依据
工业和信息化部公告2012年第70号;行业标准备案公告2013年第2号(总第158号)
发布机构
工业和信息化部
范围
本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括:铝、钡、钙、铬、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14中元素。
......
英文网页English:
JC/T 2133-2012
相关标准: