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www.GB-GBT.com 收录标准: 222414 (2026-05-15)
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[PDF] SJ 2065-1982 - 英文版

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SJ 2065-1982 英文版 239 SJ 2065-1982 [PDF]天数 >=3 半导体器件生产用扩散炉测试方法
基本信息
标准编号 SJ 2065-1982 (SJ2065-1982)
中文名称 半导体器件生产用扩散炉测试方法
英文名称 Testing method for diffusion furnace for semiconductor device manufacturing
行业 电子行业标准
中标分类 L97
字数估计 6,626
发布日期 2/18/1982
实施日期 7/1/1982
范围 本标准适用于SJ 1794-81《半导体器件生产用扩散炉通用技术条件》中规定的各种类型扩散炉 。本标准规定了下列项目的测试方法:升温时间; 升温功率; 恒温区长度及恒温精度; 单点稳定性; 恒温功率; 恒温区稳定性; 开机重复性; 电网电压波动影响; 推舟恢复时间; 多管炉层间影响。本标准所用名词术语见附录A(补充件)。

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英文网页English: SJ 2065-1982

相关标准: SJ/T 11723 | SJ/T 11450 | SJ/T 11183 | SJ 21546 |