[PDF] SJ 20714-1998 - 中国标准 英文版
| 标准号码 | 美元 | 购买PDF | 工期 | 标准名称(英文版) |
| SJ 20714-1998 | 159 | SJ 20714-1998 | <=2 | 砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | SJ 20714-1998 (SJ20714-1998) |
| 中文名称 | 砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法 |
| 英文名称 | Test method for sub-surface damage of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction |
| 行业 | 电子行业标准 |
| 中标分类 | H83 |
| 字数估计 | 4,442 |
| 发布日期 | 3/18/1998 |
| 实施日期 | 5/1/1998 |
| 引用标准 | GJB 1926-94 |
| 范围 | 本标准规定了砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法。本标准适用于经过化学、机械单面和双面抛光的砷化镓晶片亚损伤层的定性测量。 |
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