[PDF] SJ 20744-1999 - 中国标准 英文版
| 标准号码 | 美元 | 购买PDF | 工期 | 标准名称(英文版) |
| SJ 20744-1999 | 239 | SJ 20744-1999 | <=3 | 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | SJ 20744-1999 (SJ20744-1999) |
| 中文名称 | 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则 |
| 英文名称 | General rule of infrared absorption spectral analysis for the impurity concentration in semiconductor materials |
| 行业 | 电子行业标准 |
| 中标分类 | H80;L90 |
| 字数估计 | 6,678 |
| 发布日期 | 11/10/1999 |
| 实施日期 | 12/1/1999 |
| 引用标准 | GB 1557-89 |
| 范围 | 本标准规定了半导体材料中杂质含量的红外吸收分析方法的术语、基本原理、仪器设备、样品制备、测量条件、测量步骤和测量结果的计算。本标准适用于在红外光谱区为透明的并在该区域产生杂质吸收带的任何半导体单晶材料红外分析方法。 |
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