路径: 主页 > GB/T > 第435页 > GB/T 34504-2017 | 标准编号 | GB/T 34504-2017 (GB/T34504-2017) | | 中文名称 | 蓝宝石抛光衬底片表面残留金属元素测量方法 | | 英文名称 | Measurement method for surface metal contamination on sapphire polished substrate wafer | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | H17 | | 国际标准分类 | 77.040 | | 字数估计 | 14,150 | | 发布日期 | 2017-10-14 | | 实施日期 | 2018-05-01 | | 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | GB/T 34504-2017
Measurement method for surface metal contamination on sapphire polished substrate wafer
ICS 77.040
H17
中华人民共和国国家标准
蓝宝石抛光衬底片表面
残留金属元素测量方法
2017-10-14发布
2018-05-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准
化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。
本标准起草单位.天通控股股份有限公司。
本标准主要起草人.康森、宋岩岩、邵峰、沈瞿欢、於震杰。
蓝宝石抛光衬底片表面
残留金属元素测量方法
1 范围
本标准规定了蓝宝石抛光衬底片表面深度为5nm以内的残留金属元素的全反射X光荧光光谱测
试方法。
本标准适用于蓝宝石抛光衬底片表面残留的、在元素周期表中11(Na)~92(U)号(除去铝和氧),
且面密度在109atoms/cm2~1015atoms/cm2 范围内元素的定量测量。其他用途蓝宝石抛光片表面残
留金属元素的测量可参照本标准执行。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 8979-2008 纯氮、高纯氮和超纯氮
GB/T 14264 半导体材料术语
GB 50073-2013 洁净厂房设计规范
3 术语、定义和缩略语
GB/T 14264界定的以及下列术语、定义和缩略语适用于本文件。
3.1 术语和定义
3.1.1
掠射角 glancingangle
全反射X光荧光光谱(TXRF)测试方法中X射线的入射角度。
3.1.2
角扫描 anglescan
作为掠射角函数,对发射的荧光信号的测量。
3.1.3
临界角 criticalangle
能产生全反射的最大角度,当掠射角小于这一角度时,被测表面发生对入射X射线的全反射。
3.2 缩略语
TXRF 全反射X光荧光光谱(totalreflectionX-rayfluorescence)
4 方法原理
4.1 TXRF的激发是以入射角小于0.1°的原级X射线掠射激发样品台上的样品。入射的X射线通过
样品表......
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