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标准号码 |
标准名称 |
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GB/T 12967.1-2008
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铝及铝合金阳极氧化膜检测方法 第1部分：用喷磨试验仪测定 阳极氧化膜的平均耐磨性
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GB/T 12967.2-2008
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铝及铝合金阳极氧化膜检测方法 第2部分：用轮式磨损试验仪测定阳极氧化膜的耐磨性和耐磨系数
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GB/T 12967.3-2008
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铝及铝合金阳极氧化膜检测方法 第3部分：铜加速乙酸盐雾试验(CASS试验)
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GB/T 12967.6-2008
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铝及铝合金阳极氧化膜检测方法 第6部分：目视观察法检验着色阳极氧化膜色差和外观质量
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GB/T 22638.10-2008
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铝箔试验方法 第10部分：涂层表面密度的测定
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GB/T 22638.1-2008
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铝箔试验方法 第1部分：厚度的测定 重量法
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GB/T 22638.2-2008
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铝箔试验方法 第2部分：针孔的检测
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GB/T 22638.3-2008
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铝箔试验方法 第3部分：粘附性的测定
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GB/T 22638.5-2008
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铝箔试验方法 第5部分：刷水试验方法
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GB/T 22638.6-2008
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铝箔试验方法 第6部分：直流电阻的测定
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GB/T 22638.7-2008
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铝箔试验方法 第7部分：热封强度的测定
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GB/T 22638.9-2008
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铝箔试验方法 第9部分：亲水性的测定
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GB/T 20503-2006
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铝及铝合金阳极氧化 阳极氧化膜镜面反射率和镜面光泽度的测定20°、45°、60°、85°角度方向
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GB/T 20504-2006
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铝及铝合金阳极氧化 阳极氧化膜影像清晰度的测定 条标法
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GB/T 20505-2006
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铝及铝合金阳极氧化 阳极氧化膜表面反射特性的测定 积分球法
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GB/T 20506-2006
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铝及铝合金阳极氧化 阳极氧化膜表面反射特性的测定 遮光角度仪或角度仪法
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GB/T 8752-2006
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铝及铝合金阳极氧化 薄阳极氧化膜连续性检验方法 硫酸铜法
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GB/T 8754-2006
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铝及铝合金阳极氧化 阳极氧化膜绝缘性的测定 击穿电位法
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GB/T 2975-1998
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钢及钢产品 力学性能试验取样位置及试样制备
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GB/T 8013-1987
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铝及铝合金阳极氧化-阳极氧化膜的总规范
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GB/T 8014-1987
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铝及铝合金阳极氧化 阳极氧化膜厚度的定义和有关测量厚度的规定
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GB/T 6803-1986
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铁素体钢的无塑性转变温度落锤试验方法
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GB/T 5058-1985
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钢的等温转变曲线图的测定方法(磁性法)
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GB/T 14140-2025
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半导体晶片直径测试方法
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GB/T 24582-2023
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多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
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GB/T 35306-2023
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硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
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GB/T 1558-2023
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硅中代位碳含量的红外吸收测试方法
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GB/T 24581-2022
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硅单晶中III、V族杂质含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
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GB/T 37211.3-2022
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金属锗化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
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GB/T 42263-2022
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硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法
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GB/T 42274-2022
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氮化铝材料中痕量元素（镁、镓）含量及分布的测定 二次离子质谱法
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GB/T 42276-2022
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氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定 离子色谱法
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GB/T 41153-2021
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碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
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GB/T 14849.1-2020
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工业硅化学分析方法 第1部分：铁含量的测定
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GB/T 14849.3-2020
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工业硅化学分析方法 第3部分：钙含量的测定
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GB/T 38976-2020
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硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法
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GB/T 39144-2020
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氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法
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GB/T 39145-2020
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硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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GB/T 37385-2019
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硅中氯离子含量的测定 离子色谱法
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GB/T 1557-2018
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硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
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GB/T 4060-2018
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硅多晶真空区熔基硼检验方法
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GB/T 37049-2018
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电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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GB/T 37211.1-2018
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金属锗化学分析方法 第1部分: 砷含量的测定 砷斑法
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GB/T 37211.2-2018
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金属锗化学分析方法 第2部分: 铝、铁、铜、镍、铅、钙、镁、钴、铟、锌含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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GB/T 4059-2018
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硅多晶气氛区熔基磷检验方法
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GB/T 34504-2017
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蓝宝石抛光衬底片表面残留金属元素测量方法
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GB/T 35306-2017
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硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
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GB/T 35309-2017
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用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程
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GB/T 17170-2015
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半绝缘砷化镓单晶深施主EL2浓度红外吸收测试方法
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GB/T 19199-2015
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半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的红外吸收测试方法
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GB/T 24578-2015
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硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
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GB/T 32277-2015
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硅的仪器中子活化分析测试方法
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GB/T 32281-2015
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太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法
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GB/T 26067-2010
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硅片切口尺寸测试方法
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GB/T 26070-2010
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化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
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GB/T 26074-2010
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锗单晶电阻率直流四探针测量方法
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GB/T 14849.4-2008
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工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
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GB/T 11073-2007
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硅片径向电阻率变化的测量方法
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GB/T 4059-2007
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硅多晶气氛区熔基磷检验方法
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GB/T 4060-2007
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硅多晶真空区熔基硼检验方法
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GB/T 1557-2006
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硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
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GB/T 11068-2006
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砷化镓外延层载流子浓度 电容-电压测量方法
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GB/T 4326-2006
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非本征半导体单晶霍尔迁移率和霍尔系数测量方法
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GB/T 5252-2006
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锗单晶位错腐蚀坑密度测量方法
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GB/T 8757-2006
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砷化镓中载流子浓度等离子共振测量方法
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GB/T 8758-2006
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砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法
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GB/T 8760-2006
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砷化镓单晶位错密度的测量方法
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GB/T 19921-2005
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硅抛光片表面颗粒测试方法
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GB/T 19922-2005
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硅片局部平整度非接触式标准测试方法
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GB/T 4700.4-1998
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硅钙合金化学分析方法 磷钼蓝分光光度法测定磷量
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GB/T 4700.5-1998
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硅钙合金化学分析方法 红外线吸收法测定碳量
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GB/T 4700.7-1998
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硅钙合金化学分析方法 红外线吸收法和燃烧碘酸钾滴定法测定硫量
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GB/T 14849.1-1993
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工业硅化学分析方法 1,10-二氮杂菲分光光度法测定铁量
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GB/T 14849.2-1993
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工业硅化学分析方法 铬天青-S分光光度法测定铝量
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GB/T 14849.3-1993
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工业硅化学分析方法 钙量的测定
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GB/T 4298-1984
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半导体硅材料中杂质元素的活化分析方法
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GB/T 4373.1-1984
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砷化学分析方法 溴酸钾容量法测定砷量
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GB/T 4373.2-1984
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砷化学分析方法 孔雀绿光度法测定锑量
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GB/T 4373.3-1984
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砷化学分析方法 硫酸钡重量法测定硫量
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GB/T 4373.4-1984
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砷化学分析方法 二硫代二安替吡啉基甲烷光度法测定铋量
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GB/T 4699.1-1984
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硅铬合金化学分析方法 重量法测定硅量
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GB/T 4699.2-1984
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硅铬合金化学分析方法 碱熔-过硫酸铵氧化容量法测定铬量
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GB/T 4699.3-1984
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硅铬合金化学分析方法 钼蓝光度法测定磷量
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GB/T 4700.1-1984
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硅钙合金化学分析方法 高氯酸脱水重量法测定硅量
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GB/T 4700.3-1984
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硅钙合金化学分析方法 EDTA滴定法测定铝量
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GB/T 45330-2025
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锂离子电池正极材料 水分含量的测定 卡尔费休库伦法
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GB/T 19396-2025
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铽镝铁磁致伸缩材料
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GB/T 9096-2025
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烧结金属材料（不包括硬质合金） 夏比冲击试验方法
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GB/T 26050-2024
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硬质合金 金属元素含量的测定 X射线荧光光谱法
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GB/T 23367.1-2024
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钴酸锂化学分析方法 第1部分：钴含量的测定 EDTA 滴定法和电位滴定法
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GB/T 5124.5-2024
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硬质合金化学分析方法 第5部分：钽、铌含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
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GB/T 42511-2023
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硬质合金 钴粉中钙、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍和锌含量的测定 火焰原子吸收光谱法
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GB/T 42515-2023
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金属粉末 铁、铜、锡和青铜粉末中酸不溶物含量的测定
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GB/T 11106-2022
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金属粉末 用圆柱形压坯的压缩测定压坯强度的方法
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GB/T 41322-2022
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硬质合金 钴粉中硅量的测定 分光光度法
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GB/T 41329-2022
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金属粉末流动性的测定 标准漏斗法（古斯塔弗森流速计）
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GB/T 1481-2022
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金属粉末(不包括硬质合金粉末) 在单轴压制中压缩性的测定
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GB/T 41658-2022
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金属粉末（不包括硬质合金） 铜基浸渗粉检验方法
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GB/T 3488.4-2022
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硬质合金 显微组织的金相测定 第4部分：孔隙度、非化合碳缺陷和脱碳相的金相测定
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GB/T 41704-2022
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锂离子电池正极材料检测方法 磁性异物含量和残余碱含量的测定
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