路径: 主页 > GB/T > 第435页 > GB/T 35309-2017 | 标准编号 | GB/T 35309-2017 (GB/T35309-2017) | | 中文名称 | 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程 | | 英文名称 | Practice for evaluation of granular polysilicon by melter-zoner and spectroscopies | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | H17 | | 国际标准分类 | 77.040 | | 字数估计 | 10,110 | | 发布日期 | 2017-12-29 | | 实施日期 | 2018-07-01 | | 标准依据 | 国家标准公告2017年第32号 | | 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | GB/T 35309-2017
Practice for evaluation of granular polysilicon by melter-zoner and spectroscopies
ICS 77.040
H17
中华人民共和国国家标准
用区熔法和光谱分析法评价
颗粒状多晶硅的规程
2017-12-29发布
2018-07-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草的。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准
化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。
本标准起草单位.江苏中能硅业科技发展有限公司、新特能源股份有限公司、天津市环欧半导体材
料技术有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、洛阳中硅高科技有限公司。
本标准主要起草人.王桃霞、刘晓霞、耿全荣、鲁文锋、柳德发、胡伟、邱艳梅、银波、由佰玲、秦榕、
严大洲。
用区熔法和光谱分析法评价
颗粒状多晶硅的规程
1 范围
本标准规定了用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的代位碳原子浓度、施主杂质浓度和受主
杂质浓度的方法。
本标准适用于尺寸为600μm~3000μm的颗粒状多晶硅,其他尺寸的颗粒状多晶硅可参照本标
准执行。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
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3 术语和定义
GB/T 14264界定的术语和定义适用于本文件。
4 方法提要
将颗粒硅装入高纯石英管内,在石英管的下方通入高纯氩气,颗粒硅在氩气作用下处于流态化,调
节线圈位置和功率,使颗粒硅逐渐地粘附在熔化的硅棒(或籽晶)上,制备成多晶硅棒。采用GB/T 4059,
氩气氛围中,在单晶籽晶的作用下,利用区域熔解将多晶硅......
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