路径: 主页 > SJ > 第81页 > SJ 20714-1998 | 标准编号 | SJ 20714-1998 (SJ20714-1998) | | 中文名称 | 砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法 | | 英文名称 | Test method for sub-surface damage of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction | | 行业 | 电子行业标准 | | 中标分类 | H83 | | 字数估计 | 4,442 | | 发布日期 | 3/18/1998 | | 实施日期 | 5/1/1998 | | 引用标准 | GJB 1926-94 | | 范围 | 本标准规定了砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法。本标准适用于经过化学、机械单面和双面抛光的砷化镓晶片亚损伤层的定性测量。 | ......
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