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[PDF] SJ/T 11976-2025 - 英文版

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SJ/T 11976-2025 英文版 229 SJ/T 11976-2025 [PDF]天数 >=3 绝缘栅双极晶体管(IGBT)用中子嬗变掺杂区熔硅单晶 有效
基本信息
标准编号 SJ/T 11976-2025 (SJ/T11976-2025)
中文名称 绝缘栅双极晶体管(IGBT)用中子嬗变掺杂区熔硅单晶
英文名称 Neutron transmutation doped float zone silicon single crystal for Insulate GateBipolar Transistors (IGBT)
行业 电子行业标准 (推荐)
中标分类 L90
国际标准分类 31.03
字数估计 10,191
发布日期 2025-05-09
实施日期 2025-08-01
发布机构 工业和信息化部
范围 本文件规定了IGBT用中子嬗变掺杂区熔硅单晶(以下简称NTD硅单晶)的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和质量证明书等本文件适用于IGBT产品用NTD硅单晶

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英文网页English: SJ/T 11976-2025

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