| 标准编号 | GB/T 42789-2023 (GB/T42789-2023) | | 中文名称 | 硅片表面光泽度的测试方法 | | 英文名称 | Test method for gloss of silicon wafer | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | H21 | | 国际标准分类 | 77.040 | | 字数估计 | 10,148 | | 发布日期 | 2023-08-06 | | 实施日期 | 2024-03-01 | | 发布机构 | 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会 | GB/T 42789-2023: 硅片表面光泽度的测试方法
ICS 77.040
CCSH21
中华人民共和国国家标准
硅片表面光泽度的测试方法
2023-08-06发布
2024-03-01实施
国 家 市 场 监 督 管 理 总 局
国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 发 布
前言
本文件按照GB/T 1.1-2020《标准化工作导则 第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准
化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。
本文件起草单位:浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、有色金属技术经
济研究院有限责任公司、天津中环领先材料技术有限公司、山东有研半导体材料有限公司、上海合晶硅
材料股份有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、浙江旭盛电子
有限公司、巢湖学院、金瑞泓科技(衢州)有限公司。
本文件主要起草人:梁兴勃、李琴、张海英、林松青、潘金平、李素青、张雪囡、由佰玲、边永智、庄智慧、
沈辉辉、焦二强、韩云霄、徐志群、付明全、詹玉峰、王可胜。
硅片表面光泽度的测试方法
1 范围
本文件描述了采用光反射法以20°、60°或85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。
本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试,不适用于表面有图形的硅片的测试。
2 规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文
件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于
本文件。
GB/T 9754 色漆和清漆 不含金属颜料的色漆漆膜的20°、60°和85°镜面光泽的测定
GB/T 14264 半导体材料术语
JJG696-2015 镜向光泽度计和光泽度板
3 术语和定义
GB/T 9754和GB/T 14264界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1
光泽度 gloss
对于规定的光源和接收角,从物体镜向方向反射的光通量与从折射率为1.567的黑玻璃镜向方向
反射的光通量之比。
注1:为了确定镜向光泽的标度,对于20°、60°和85°几何角度折射率为1.567的抛光黑玻璃,规定其光泽度值
为100。
注2:对双面硅抛光片背面光泽度的评价是以抛光片正面光泽度为基准计算的。
4 方法原理
在规定入射角和规定光束的条件下,入射光经过透镜照射到样品表面,......
|