GB/T 44849-2024 相关标准英文版PDF
| 标准号码 | 价格美元 | 第2步(购买) | 交付天数 | 标准名称 |
| GB/T 44849-2024 | 384 | GB/T 44849-2024 | [PDF]天数 <=4 | 微机电系统（MEMS）技术 金属膜材料成形极限测量方法 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | GB/T 44849-2024 (GB/T44849-2024) |
| 中文名称 | 微机电系统（MEMS）技术 金属膜材料成形极限测量方法 |
| 英文名称 | Micro-electromechanical systems (MEMS) technology - Forming limit measuring method of metallic film materials |
| 行业 | 国家标准 (推荐) |
| 中标分类 | L59 |
| 国际标准分类 | 31.080.99 |
| 字数估计 | 19,179 |
| 发布日期 | 2024-10-26 |
| 实施日期 | 2025-05-01 |
| 发布机构 | 国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会 |
GB/T 44849-2024
Micro-electromechanical systems (MEMS) technology - Forming limit measuring method of metallic film materials
微机电系统（MEMS）技术 金属膜
材料成形极限测量方法
Micro-electromechanical systems (MEMS) technology-Forming limit
measuring method of metallic film materials
（IEC 62047-14:2012, Semiconductor devices-Micro-electromechanical
metallic film materials, IDT）
ICS 31.080.99
CCS L 59
中华人民共和国国家标准
2024-10-26发布 2025-05-01实施
国家市场监督管理总局
国家标准化管理委员会 发 布
目次
前言 ··· Ⅲ
1 范围 ···· 1
2 规范性引用文件 ···· 1
3 术语、定义和符号 ···· 1
3.1 术语和定义 ···· 1
3.2 符号 ··· 2
4 试验方法 ··· 2
4.1 概述 ··· 2
4.2 设备 ··· 2
4.3 样品 ··· 3
5 试验过程与分析 ···· 3
5.1 试验过程 ···· 3
5.2 数据分析 ···· 4
6 试验报告 ··· 5
附录 A （资料性） 成形极限图原理 ···· 6
附录 B （资料性） 栅格标记方法 ····· 8
B.1 概述 ···· 8
B.2 影印法 ···· 8
B.3 喷墨法 ···· 8
附录 C （资料性） 夹持方法 ···· 10
C.1 模压法 ···· 10
C.2 粘接法 ···· 11
附录 D （资料性） 应变测量方法 ··· 12
参考文献 ··· 14
图 1 成形极限试验装置 ···· 3
图 2 六种长宽比的矩形样品 ···· 3
图 3 应变成形极限测量 ···· 4
图 4 主应变和次应变成形极限图 ··· 5
图 A.1 成形极限图 ···· 6
图 A.2 成形极限测量用半球形冲头 ··· 6
图 A.3 成形极限测量栅格图案 ··· 7
图 A.4 不同长宽比样品的加载路径 ··· 7
图 B.1 影印法标记栅格的步骤 ··· 8
图 B.2 喷墨法标记栅格的步骤 ··· 9
图 C.1 用于夹持样品的环形模具 ····· 10
图 C.2 使用黏合剂夹持样品 ··· 11
图 D.1 测量应变时数码相机的安装方式示意图 ···· 12
图 D.2 变形样品的像素转换示例 ····· 13
表 1 字母符号列表 ···· 2
前言
本文件按照 GB/T 1.1-2020《标准化工作导则 第 1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规
定起草。
本文件等同采用 IEC 62047﹘14:2012《半导体器件 微机电器件 第 14部分：金属膜材料成形极限
测量方法》。
本文件做了下列最小限度的编辑性改动：
为与现有标准协调，将标准名称改为《微机电系统（MEMS）技术 金属膜材料成形极限测量
方法》；
删除了“范围”中有关使用本文件的目的和意义的描述；-
增加了3.1.3、3.1.4的“注”；-
增加了资料性引用的ISO 21920﹘2:2021（见4.2）；-
样品长度符号“h”修改为“l”；-
增加了图3、图D.2中d0、d1、d2的标注，删除了IEC 62047﹘14:2012中图D.2的公式；-
增加了图B.2中“喷墨头”的标注，同时增加了B.3 c)。-
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国微机电技术标准化技术委员会（SAC/TC 336）提出并归口。
本文件起草单位：合肥美的电冰箱有限公司、中机生产力促进中心有限公司、无锡华润上华科技有
限公司、苏州大学、微纳感知（合肥）技术有限公司、宁波科联电子有限公司、西北工业大学、美的集
团股份有限公司、深圳市美思先端电子有限公司、华东电子工程研究所（中国电子科技集团公司第三十八
研究所）、上海临港新片区跨境数据科技有限公司、北京晨晶电子有限公司、安徽北方微电子研究院集
团有限公司。
本文件主要起草人：曹诗亮、李根梓、马卓标、胡永刚、孙立宁、许磊、王雄伟、王学文、王春举、钱峰、
张森、武斌、张红旗、张启心、汤一、陈林、王文婧。
微机电系统（MEMS）技术 金属膜
材料成形极限测量方法
1 范围
本文件描述了测量厚度范围为 0.5 μm～300 μm金属膜材料成形极限的方法。
本文件适用于通过压印等成型工艺制造电子元器件、MEMS的金属膜材料。
2 规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文
件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用
于本文件。
IEC 62047﹘1 半导体器件 微机电器件 第 1 部分：术语和定义 (Semiconductor dev ices-
Micro-electromechanical devices-Part 1: Terms and definitions)
注：GB/T 26111-2023 微机电系统（MEMS）技术 术语（IEC 62047﹘1:2016，MOD）
3 术语、定义和符号
3.1 术语和定义
IEC 62047﹘1界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1.1
圆形栅格 circular grid
用于测量圆内样品局部形变的栅格。
3.1.2
栅格图案 grid patterns
标记在试验材料表面的图案，用于直接测量金属膜材料的可成形性。
注：......