JC/T 2133-2012 相关标准英文版PDF
| 标准号码 | 价格美元 | 第2步(购买) | 交付天数 | 标准名称 |
| JC/T 2133-2012 | 289 | JC/T 2133-2012 | [PDF]天数 <=3 | 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | JC/T 2133-2012 (JC/T2133-2012) |
| 中文名称 | 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法 |
| 英文名称 | Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry. Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method |
| 行业 | 建材行业标准 (推荐) |
| 中标分类 | C14 |
| 国际标准分类 | 71.040 |
| 字数估计 | 11,195 |
| 引用标准 | GB/T 602; GB/T 6682 |
| 标准依据 | 工业和信息化部公告2012年第70号;行业标准备案公告2013年第2号(总第158号) |
| 发布机构 | 工业和信息化部 |
| 范围 | 本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括:铝、钡、钙、铬、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14中元素。 |
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