| 标准编号 | YS/T 1024-2015 (YS/T1024-2015) | | 中文名称 | 溅射用钽靶材 | | 英文名称 | Tantalum sputtering targets | | 行业 | 有色冶金行业标准 (推荐) | | 中标分类 | H63 | | 国际标准分类 | 77.150.99 | | 字数估计 | 9,966 | | 发布日期 | 2015-04-30 | | 实施日期 | 2015-10-01 | | 引用标准 | GB/T 1804; GB/T 4340.1; GB/T 6394; GB/T 8651; GB/T 15076.8; GB/T 15076.13; GB/T 15076.14; GB/T 15076.15; GB/T 20967-2007; YS/T 837; YS/T 899 | | 标准依据 | 工业和信息化部公告2015年第28号;行业标准备案公告2015年第7号(总第187号) | | 发布机构 | 工业和信息化部 | | 范围 | 本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料, 通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材(以下简称钽靶材)。 | YS/T 1024-2015
(Tantalum sputtering target)
ICS 77.150.99
H63
中华人民共和国有色金属行业标准
溅射用钽靶材
2015-04-30发布
2015-10-01实施
中华人民共和国工业和信息化部 发 布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。
本标准起草单位:宁夏东方钽业股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、宁波江丰电子材料股份
有限公司、西安方科新材料科技有限公司。
本标准主要起草人:钟景明、李桂鹏、汪凯、李兆博、姚力军、熊晓东、王莉、宿康宁、王小青、杜铁路。
溅射用钽靶材
1 范围
本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、
质量证明书和订货单(或合同)内容。
本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料,通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法
制造的溅射用钽靶材(以下简称钽靶材)。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 1804 一般公差 未注公差的线性和角度尺寸的公差
GB/T 4340.1 金属材料 维氏硬度试验 第1部分:试验方法
GB/T 6394 金属平均晶粒度测定方法
GB/T 8651 金属板材超声板波探伤方法
GB/T 15076.8 钽铌化学分析方法 碳量和硫量的测定
GB/T 15076.13 钽铌化学分析方法 钽中氮量的测定
GB/T 15076.14 钽铌化学分析方法 氧量的测定
GB/T 15076.15 钽铌化学分析方法 氢量的测定
GB/T 20967-2007 无损检测 目视检测 总则
YS/T 837 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
YS/T 899 高纯钽化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
3 要......
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