| 标准编号 | YS/T 893-2013 (YS/T893-2013) | | 中文名称 | 电子薄膜用高纯钛溅射靶材 | | 英文名称 | High-purity sputtering titanium target used in electronic film | | 行业 | 有色冶金行业标准 (推荐) | | 中标分类 | H64 | | 国际标准分类 | 77.150.50 | | 字数估计 | 9,998 | | 引用标准 | GB/T 1031; GB/T 4698.7; GB/T 4698.14; GB/T 4698.15; GB/T 6394; GJB 1580A; YS/T 837; YS/T 891; YS/T 892 | | 标准依据 | 工业和信息化部公告2013年第52号;行业标准备案公告2014年第1号(总第169号) | | 发布机构 | 工业和信息化部 | | 范围 | 本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量证明与合同(订单)等内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材。 | YS/T 893-2013
High-purity sputtering titanium target used in electronic film
ICS 77.150.50
H64
中华人民共和国有色金属行业标准
电子薄膜用高纯钛溅射靶材
2013-10-17发布
2014-03-01实施
中华人民共和国工业和信息化部 发 布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员(SAC/TC243)归口。
本标准起草单位:有研亿金新材料股份有限公司、宁波江丰电子材料有限公司。
本标准主要起草人:何金江、董亭义、袁海军、罗俊锋、滕海涛、喻洁、贺昕、钱红兵、周辰、刘丹、
陆灵芝、王学泽、熊晓东。
电子薄膜用高纯钛溅射靶材
1 范围
本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及
质量证明与合同(订单)等内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 1031 产品几何技术规范(GPS) 表面结构 轮廓法 表面粗糙度参数及其数值
GB/T 4698.7 海绵钛、钛及钛合金化学分析方法 氧量、氮量的测定
GB/T 4698.14 海绵钛、钛及钛合金化学分析方法 碳量的测定
GB/T 4698.15 海绵钛、钛及钛合金化学分析方法 氢量的测定
GB/T 6394 金属平均晶粒度测定方法
GJB1580A 变形金属超声检验方法
YS/T 837 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
YS/T 891 高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
YS/T 892 高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
3 术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
3.1
靶材 target
在溅射沉积技术中的阴极部分。该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子、原子或离子的形
式脱离阴极而在阳极表面沉积。
3.2
靶坯 targetblank
阴极上用作溅射材料的部分。
3.3
背板 backingplate
用来支撑或固定靶材的......
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