搜索结果: GB/T 30652-2023, GB/T30652-2023, GBT 30652-2023, GBT30652-2023
| 标准编号 | GB/T 30652-2023 (GB/T30652-2023) | | 中文名称 | 硅外延用三氯氢硅 | | 英文名称 | Trichlorosilane for silicon epitaxial | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | H83 | | 国际标准分类 | 29.045 | | 字数估计 | 10,144 | | 发布日期 | 2023-08-06 | | 实施日期 | 2024-03-01 | | 旧标准 (被替代) | GB/T 30652-2014 | | 发布机构 | 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会 | GB/T 30652-2023: 硅外延用三氯氢硅
ICS 29.045
CCSH83
中华人民共和国国家标准
代替GB/T 30652-2014
硅外延用三氯氢硅
2023-08-06发布
2024-03-01实施
国 家 市 场 监 督 管 理 总 局
国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 发 布
前言
本文件按照GB/T 1.1-2020《标准化工作导则 第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
起草。
本文件代替GB/T 30652-2014《硅外延用三氯氢硅》,与GB/T 30652-2014相比,除结构调整和
编辑性改动外,主要技术变化如下:
a) 更改了适用范围(见第1章,2014年版的第1章);
b) 增加了术语和定义一章(见第3章);
c) 更改了部分技术指标要求(见4.1,2014年版的3.2);
d) 增加了部分项目的试验方法(见第5章,2014年版的第4章);
e) 更改了组批的规定(见6.2,2014年版的5.2);
f) 增加了检验项目(见6.3);
g) 更改了取样和制样的要求(见6.4,2014年版的5.3);
h) 更改了检验结果的判定(见6.5,2014年版5.4);
i) 更改了标志的要求(见7.1,2014年版的6.1);
j) 更改了标志、包装、运输、贮存等的要求(见第7章,2014年版的第6章)。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准
化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。
本文件起草单位:洛阳中硅高科技有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、上海亿钶气
体有限公司、南京国盛电子有限公司、唐山三孚电子材料有限公司、上海新昇半导体科技有限公司、上海
晶盟硅材料有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、武汉新
硅科技潜江有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、中电晶华(天津)半导体材料有限公司、昊华气体有限
公司、新疆新特新能材料检测中心有限公司、青海中航硅材料有限公司、沁阳国顺硅源光电气体有限公
司、江西晨光新材料股份有限公司。
本文件主要起草人:万烨、赵雄、严大洲、刘见华、张园园、李素青、李建新、李飞明、冯永平、孙任靖、
张斌、顾广安、于生海、邓远红、徐岩、李楷东、刘文明、李明达、付梦月、邱艳梅、边红利、史隽涛、梁秋鸿。
本文件于2014年首次发布,本次为第一次修订。
硅外延用三氯氢硅
1 范围
本文件规定了硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮
存、随行文件及订货单内容。
本文件适用于以三氯氢硅为原料精制提纯而制得的硅外延用三氯氢硅(以下简称产品)。
2 规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文
件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于
本文件。
GB 190 危险货物包装标志
GB/T 191 包装储运图示标志
GB/T 1551 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法
GB/T 3723工业用化学产品采样安全通则
GB 12463 危险货物运输包装通用技术条件
GB/T 14264半导体材料术语
GB 15258 化学品安全标签编写规定
GB/T 16483 化学品安全技术说明书 内容和项目顺序
GB/T 24581 硅单晶中Ⅲ、Ⅴ族杂质含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
GB/T 26571特种气体储存期规范
GB/T 28654 工业三氯氢硅
GB/T 29056 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量
的测定 电感耦合等离子体质谱法
GB/T 29057 用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程
GB 30000.19化学品分类和标签规范 第19部分:皮肤腐蚀/刺激
YS/T 987 氯硅烷中碳含量的测定 气相色谱质谱联用法
YS/T 1059 硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法
YS/T 1060 硅外延用三氯......
|