搜索结果: GB/T 43725-2024, GB/T43725-2024, GBT 43725-2024, GBT43725-2024
| 标准编号 | GB/T 43725-2024 (GB/T43725-2024) | | 中文名称 | 直写成像式曝光设备 | | 英文名称 | Direct writing imaging exposure equipment | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | L97 | | 国际标准分类 | 31.260 | | 字数估计 | 18,150 | | 发布日期 | 2024-03-15 | | 实施日期 | 2024-10-01 | | 发布机构 | 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会 | GB/T 43725-2024: 直写成像式曝光设备
ICS 31.260
CCSL97
中华人民共和国国家标准
直写成像式曝光设备
2024-03-15发布
2024-10-01实施
国 家 市 场 监 督 管 理 总 局
国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 发 布
目次
前言 Ⅲ
1 范围 1
2 规范性引用文件 1
3 术语和定义 1
4 分类与结构 3
5 技术要求 4
6 测试方法 8
7 检验规则 11
8 标识、标志、包装、运输和贮存 12
9 产品随机文件 13
前言
本文件按照GB/T 1.1-2020《标准化工作导则 第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
本文件起草单位:合肥芯碁微电子装备股份有限公司、广州兴森快捷电路科技有限公司、安徽省工
业和信息化研究院、深南电路股份有限公司、四创电子股份有限公司、中国电子技术标准化研究院、合肥
矽迈微电子科技有限公司、深圳市克洛诺斯科技有限公司、深圳拜波赫技术有限公司。
本文件主要起草人:何少锋、陈新、邱醒亚、乔书晓、沈桂珍、朱颖、陈黎阳、方林、曲鲁杰、许静平、
陈东、崔良端、陆培良、吴怡然、曹可慰、赵俊莎、李香滨、严孝年、鲁男、李娜、李照辉、吴新民。
直写成像式曝光设备
1 范围
本文件规定了直写成像式曝光设备的分类与结构、技术要求、检验规则、标志、包装、运输和贮存及
产品随机文件的要求,描述了测试方法,包括试验一般条件、外观和尺寸检查、性能测试、安全性测试和
噪声测试。
本文件适用于印制电路板及集成电路封装基板用直写成像式曝光设备的设计、研发、验证、制造、使
用及检验等过程。
2 规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文
件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于
本文件。
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3 术语和定义
SJ/T 10668-2023界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1
采用光反射、电光相互作用、声光相互作用等方式改变光传播方向或能量分布的器件。
3.2
利用激光二极管、发光二极管或其他光......
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