搜索结果: GB/T 43798-2024, GB/T43798-2024, GBT 43798-2024, GBT43798-2024
| 标准编号 | GB/T 43798-2024 (GB/T43798-2024) | | 中文名称 | 平板显示阵列用正性光阻材料测试方法 | | 英文名称 | Test method of positive photoresist for manufacturing of flat panel display array | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | L90 | | 国际标准分类 | 31.030 | | 字数估计 | 18,133 | | 发布日期 | 2024-03-15 | | 实施日期 | 2024-10-01 | | 发布机构 | 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会 | GB/T 43798-2024: 平板显示阵列用正性光阻材料测试方法
ICS 31.030
CCSL90
中华人民共和国国家标准
平板显示阵列用正性光阻材料
测试方法
displayarray
2024-03-15发布
2024-10-01实施
国 家 市 场 监 督 管 理 总 局
国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 发 布
目次
前言 Ⅲ
1 范围 1
2 规范性引用文件 1
3 术语和定义 1
4 测试条件 2
4.1 环境条件 2
4.2 试剂材料 2
4.3 其他配套 2
5 测试项目 2
5.1 胶膜云纹 2
5.2 曝光量 4
5.3 曝光测试观察图形完整性 6
5.4 关键尺寸(CD) 6
5.5 残膜率 7
5.6 固含量 8
5.7 液体颗粒计数 9
5.8 粘度 10
5.9 相对密度 11
5.10 水分质量分数 11
5.11 金属杂质含量 11
6 试验报告 13
前言
本文件按照GB/T 1.1-2020《标准化工作导则 第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
本文件起草单位:京东方科技集团股份有限公司、上海彤程电子材料有限公司、中国电子技术标准
化研究院、阜阳欣奕华材料科技有限公司、江阴润玛电子材料股份有限公司、福建泓光半导体材料有限
公司。
本文件主要起草人:杨澜、程龙、吴怡然、赵俊莎、曹可慰、李琳、吴京玮、岳爽、李璐、戈烨铭、何珂、
曾成财、袁晓雷。
平板显示阵列用正性光阻材料
测试方法
1 范围
本文件描述了平板显示阵列用正性光阻材料的测试方法。
本文件适用于液晶显示器件、有机发光显示器件等显示阵列制造用正性光阻材料的性能测试。
2 规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文
件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于
本文件。
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3 术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
3.1
曝光量 exposureenergy
光阻材料单位面积吸收光能或其他辐照能的剂量。
注:用于衡量光阻材料对曝光的敏感程度,光学曝光中在给定的曝光光源强度条件下,通常通过曝光时间长短调整
曝光量。
3.2
基底片 substrate
用于光阻材料涂布的衬底材料。
注:本文件中基底片可以是单晶硅片、外延硅片,以及平板显示用玻璃片等。
3.3
前烘 softbake/prebake
光阻材料通过涂布过程后,通过烘箱或热板方式将光阻薄膜内溶剂挥发,形成曝光工艺过程所需胶
膜的过程。
3.4
后烘 hardbake
光阻材料经过涂布-前烘-曝光-显影后,通过烘箱或热板方式进行烘烤的过程。
注:将光阻薄......
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