[PDF] GB/T 20176-2006 - 英文版
| 标准号码 | 美元 | 购买PDF | 工期 | 标准名称(英文版) |
| GB/T 20176-2006 | 394 | GB/T 20176-2006 | <=3 | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | GB/T 20176-2006 (GB/T20176-2006) |
| 中文名称 | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 |
| 英文名称 | Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials |
| 行业 | 国家标准 (推荐) |
| 中标分类 | N33 |
| 国际标准分类 | 71.040.40 |
| 字数估计 | 20,286 |
| 发布日期 | 2006-03-27 |
| 实施日期 | 2006-11-01 |
| 引用标准 | ISO 5725-2-1994 |
| 采用标准 | ISO 14237-2000, IDT |
| 标准依据 | 中国国家标准批准发布公告 2006年第5号(总第92号) |
| 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 |
| 范围 | 本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10的16次方atoms/cm3～1×10的20次方atoms/cm3。 |
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