GB/T 20176-2025 相关标准英文版PDF
| 标准号码 | 价格美元 | 第2步(购买) | 交付天数 | 标准名称 |
| GB/T 20176-2025 | 444 | GB/T 20176-2025 | [PDF]天数 <=4 | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 |
| GB/T 20176-2006 | 394 | GB/T 20176-2006 | [PDF]天数 <=3 | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | GB/T 20176-2025 (GB/T20176-2025) |
| 中文名称 | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 |
| 英文名称 | Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials |
| 行业 | 国家标准 (推荐) |
| 中标分类 | G04 |
| 国际标准分类 | 71.040.40 |
| 字数估计 | 22,271 |
| 发布日期 | 2025-06-30 |
| 实施日期 | 2026-01-01 |
| 旧标准 (被替代) | GB/T 20176-2006 |
| 发布机构 | 国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会 |
GB/T 20176-2025: 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
ICS 71.040.40
CCSG04
中华人民共和国国家标准
代替GB/T 20176-2006
表面化学分析 二次离子质谱
用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
(ISO 14237:2010,IDT)
2025-06-30发布
2026-01-01实施
国 家 市 场 监 督 管 理 总 局
国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 发 布
目次
前言 Ⅲ
引言 Ⅳ
1 范围 1
2 规范性引用文件 1
3 原理 1
4 参考物质 1
4.1 一级参考物质 1
4.2 二级参考物质 1
5 仪器 2
6 样品 2
7 步骤 2
7.1 二次离子质谱仪器的调试 2
7.2 优化二次离子质谱仪器的设定 3
7.3 进样 3
7.4 被测离子 3
7.5 校准 3
7.6 试样的测量 5
8 结果表述 5
8.1 计算方法 5
8.2 精密度 6
9 测试报告 6
附录A(资料性) 硅片中载流子浓度确定 7
附录B(资料性) 用SIMS测量硼同位素比 9
附录C(规范性) 仪器性能的评估步骤 12
附录D(资料性) 实验室间测试统计报告 14
参考文献 17
前言
本文件按照GB/T 1.1-2020《标准化工作导则 第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
起草。
本文件代替GB/T 20176-2006《表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的
原子浓度》,与GB/T 20176-2006相比,主要技术变化如下:
---更改了氧离子束的测试条件(见7.1,2006年版的7.1)。
本文件等同采用ISO 14237:2010《表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的
原子浓度》。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国表面化学分析标准化技术委员会(SAC/TC608)提出并归口。
本文件起草单位:清华大学、中国地质大学(北京)、中国矿业大学(北京)、中国人民公安大学、北京
大学、中山大学、中国工程物理研究院材料研究所。
本文件主要起草人:李展平、郭冲、王梦琴、和平、王富芳、刘兆伦、郎玉博、李芹、张硕、刘可心、
吴美璇、陈建、伏晓国。
本文件及其所代替文件的历次版本发布情况为:
---GB/T 20176-2006;
---本次为第一次修订。
引 言
度的确定而制定。
SIMS的定量分析需要参考物质。价格昂贵经标定的参考物质仅适用于特定基体与杂质的组合
物。在每一次SIMS测量中都不可避免地要消耗这些参考物质。
每个实验室可制备标定参考物质校准的二级参考物质,它们在日常分析中很有用。
本文件描述用二级参考物质进行单晶硅中硼定量分析的标准步骤,该二级参考物质经已标定注入
硼参考物质校准。
表面化学分析 二次离子质谱
用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
1 范围
本文件详细说明了用标定的均匀掺杂物质(用注入硼的参考物质校准)确定单晶硅中硼的原子浓度
的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×1016atoms/cm3~1×1020atoms/cm3。
2 规范性引用文件
下列引用文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引
用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适
用于本文件。
注:GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法(ISO 17560:2014,IDT)
ISO 18114 表面化学分析 二次离子质谱 从离子注入的参考物质中确定相对灵敏度因子(Sur-
注:GB/T 25186-2010表面化学分析 二次离子质谱-由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子(ISO 18114:
2003,IDT)
3 原理
氧或铯离子束撞击到样品表面并对发射出的硼和硅的二次离子进行质量分析和检测。
用均匀掺杂的二级参考物质(经离......