GB/T 34893-2017 相关标准英文版PDF
| 标准号码 | 价格美元 | 第2步(购买) | 交付天数 | 标准名称 |
| GB/T 34893-2017 | 219 | GB/T 34893-2017 | [PDF]天数 <=3 | 微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | GB/T 34893-2017 (GB/T34893-2017) |
| 中文名称 | 微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法 |
| 英文名称 | Micro-electromechanical system technology -- Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer |
| 行业 | 国家标准 (推荐) |
| 中标分类 | L55 |
| 国际标准分类 | 31.200 |
| 字数估计 | 11,164 |
| 发布日期 | 2017-11-01 |
| 实施日期 | 2018-05-01 |
| 标准依据 | 国家标准公告2017年第29号 |
| 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 |
GB/T 34893-2017
Micro-electromechanical system technology-Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
ICS 31.200
L55
中华人民共和国国家标准
微机电系统(MEMS)技术
基于光学干涉的 MEMS微结构
面内长度测量方法
2017-11-01发布
2018-05-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布
目次
前言 Ⅰ
1 范围 1
2 规范性引用文件 1
3 术语和定义 1
4 测量方法 1
5 影响测量不确定度的主要因素 4
附录A(资料性附录) 光学干涉显微镜的典型形式和主要技术特点 5
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC336)提出并归口。
本标准主要起草单位.天津大学、中机生产力促进中心、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、南
京理工大学中国电子科技集团公司第十三研究所。
本标准主要起草人.胡晓东、郭彤、于振毅、李海斌、程红兵、裘安萍、崔波、朱悦。
微机电系统(MEMS)技术
基于光学干涉的 MEMS微结构
面内长度测量方法
1 范围
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取 MEMS微结构表面形貌进行面内长度测量的方法。
本标准适用于表面反射率不低于4%,宽深比不低于1∶10,且使用光学干涉显微镜能够获取形貌
的 MEMS微结构。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 3505 产品几何技术规范(GPS) 表面结构 轮廓法 术语、定义及表面结构参数
GB/T 26111 微机电系统(MEMS)技术 术语
GB/T 26113 微机电系统(MEMS)技术 微几何量评定总则
3 术语和定义
GB/T 3505和GB/T 26111界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1
表面形貌 surfacetopography
表面结构的宏观和微观几何特性。
注.一般包括表面几何形状、表面波纹度、表面粗糙度及表面缺陷等。
3.2
面内长度 in-planelength
表面有边缘结构特征的两点、点与线或两条线之间的距离。
......