GB/T 39145-2020 相关标准英文版PDF
| 标准号码 | 价格美元 | 第2步(购买) | 交付天数 | 标准名称 |
| GB/T 39145-2020 | 189 | GB/T 39145-2020 | [PDF]天数 <=3 | 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | GB/T 39145-2020 (GB/T39145-2020) |
| 中文名称 | 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 |
| 英文名称 | Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers - Inductively coupled plasma mass spectrometry |
| 行业 | 国家标准 (推荐) |
| 中标分类 | H17 |
| 国际标准分类 | 77.040 |
| 字数估计 | 10,152 |
| 发布日期 | 2020-10-11 |
| 实施日期 | 2021-09-01 |
| 标准依据 | 国家标准公告2020年第21号 |
| 发布机构 | 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会 |
GB/T 39145-2020
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers -- Inductively coupled plasma mass spectrometry
ICS 77.040
H17
中华人民共和国国家标准
硅片表面金属元素含量的测定
电感耦合等离子体质谱法
2020-10-11发布
2021-09-01实施
国 家 市 场 监 督 管 理 总 局
国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 发 布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准
化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。
本标准起草单位:南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公
司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、无锡华瑛微电子技术有限公司、龙腾半导体有
限公司、厦门科鑫电子有限公司。
本标准主要起草人:骆红、潘文宾、赵而敬、孙燕、张海英、徐新华、温子瑛、胡金枝、李素青、马林宝、
李俊需。
硅片表面金属元素含量的测定
电感耦合等离子体质谱法
1 范围
本标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。
本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元
素含量的测定,测定范围为108cm-2~1013cm-2。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形
硅片表面痕量金属元素含量的测定。
注:硅片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 6624 硅抛光片表面质量目测检验方法
GB/T 14264 半导体材料术语
GB/T 17433 冶金产品化学分析基础术语
GB/T 19921 硅抛光片表面颗粒测试方法
GB/T 25915.1-2010 洁净室及相关受控环境 第1部分:空气洁净度等级
GB/T 37837 四级杆电感耦合等离子体质谱方法通则
JJF1159 四级杆电感耦合等离子体质谱仪校准规范
SEMIF63 半导体加工用超纯水指南
3 术语和定义
GB/T 14264、GB/T 17433、GB/T 37837和JJF1159界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1
扫描溶液
通过扫描方式收集的含有硅片表面痕量金属元素的溶液。
3.2
直接酸滴分解法
用含有氢氟酸的提取液分解硅片表面的氧化层,形......