| 标准编号 | GB/T 44928-2024 (GB/T44928-2024) | | 中文名称 | 微电子学微光刻技术术语 | | 英文名称 | Terms of microlithography technology for microelectronics | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | L90 | | 国际标准分类 | 31.030 | | 字数估计 | 190,111 | | 发布日期 | 2024-12-31 | | 实施日期 | 2024-12-31 | | 发布机构 | 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会 | GB/T 44928-2024: 微电子学微光刻技术术语
ICS 31.030
CCSL90
中华人民共和国国家标准
微电子学微光刻技术术语
2024-12-31发布
2024-12-31实施
国 家 市 场 监 督 管 理 总 局
国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 发 布
目次
前言 Ⅲ
1 范围 1
2 规范性引用文件 1
3 术语和定义 1
3.1 微电子学光刻技术 1
3.2 先进光刻技术 11
3.3 微光刻图形化和图形数据处理技术 47
3.4 微光刻感光材料、铬板与基板材料 55
3.5 光掩模技术 60
3.6 光刻工艺(曝光、蚀刻与微纳米加工)技术 63
3.7 电子束掩模制造与直写技术 84
3.8 光刻及掩模质量参数测量和评定 89
3.9 掩模制造设备和微光刻设备 100
索引 132
前言
本文件按照GB/T 1.1-2020《标准化工作导则 第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
本文件起草单位:中国科学院微电子研究所。
本文件主要起草人:陈宝钦、王香、李和委、王力玉、李新涛、冯伯儒、薛丽君、郝美玲、薛彩荣。
微电子学微光刻技术术语
1 范围
本文件界定了微电子学微光刻技术有关的微电子光刻技术,先进光刻技术,微光刻图形化和图形数
据处理技术,微光刻感光材料、铬板与基板材料,光掩模技术,光刻工艺(曝光、刻蚀与微纳米加工)技
术,电子束掩模制造与直写技术,光刻及掩模质量参数测量和评定,掩模制造设备和微光刻设备等术语
和定义。
本文件适用于微电子学微光刻技术领域的教学、科研、生产、应用、贸易和技术交流。
2 规范性引用文件
本文件没有规范性引用文件。
3 术语和定义
3.1 微电子学光刻技术
3.1.1
微电子学 microelectronics
研究固体功能材料(主要是半导体材料)及基于这些功能材料的微型电子元器件研制及生产技术的
学科,包括其物理特性、工作原理、电路......
|