SJ/T 10627-1995 相关标准英文版PDF
| 标准号码 | 价格美元 | 第2步(购买) | 交付天数 | 标准名称 |
| SJ/T 10627-1995 | 199 | SJ/T 10627-1995 | [PDF]天数 <=2 | 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 |
| 基本信息 | |
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| 标准编号 | SJ/T 10627-1995 (SJ/T10627-1995) |
| 中文名称 | 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 |
| 英文名称 | Test methods for oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction |
| 行业 | 电子行业标准 (推荐) |
| 中标分类 | H82 |
| 字数估计 | 5,553 |
| 发布日期 | 4/22/1995 |
| 实施日期 | 10/1/1995 |
| 标准依据 | 工科(2010)第77号 |
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