搜索结果: GB/T 17865-1999, GB/T17865-1999, GBT 17865-1999, GBT17865-1999
| 标准编号 | GB/T 17865-1999 (GB/T17865-1999) | | 中文名称 | 焦深与最佳聚焦的测量规范 | | 英文名称 | Specification for measuring depth of focus and best focus | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | L56 | | 国际标准分类 | 31.2 | | 字数估计 | 7,770 | | 发布日期 | 9/13/1999 | | 实施日期 | 6/1/2000 | | 引用标准 | GB/T 16878-1997; SJ/T 10584-1994 | | 采用标准 | SEMI P25-1994, IDT | | 发布机构 | 国家质量技术监督局 | | 范围 | IC行业中的光刻及光掩模制造工艺需要对IC光刻设备如光学图形发生器、分步重复精缩机、分步重复投影光刻机、扫描曝光系统等的聚焦深度、像散和场畸变进行测量并提出报告, 本标准解释他们常用的术语的含义和所用的基本技术。本标准只涉及集成电路生产中所用的光刻技术及其关系密切的技术的聚焦与焦深测量问题。由于设备技术多种多样, 因而不可能提出这些参数的明确测量方法。本标准只提供基本准则。注:在确定适合某项应用的最佳焦点时, 这个方法是颇有价值的。但它的主要目的是通过测定焦深、像散和场畸变来比较不同的设备和工艺。对于某一个具体 | ......
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