搜索结果: GB/T 35310-2017, GB/T35310-2017, GBT 35310-2017, GBT35310-2017
| 标准编号 | GB/T 35310-2017 (GB/T35310-2017) | | 中文名称 | 200mm硅外延片 | | 英文名称 | 200 mm silicon epitaxial wafer | | 行业 | 国家标准 (推荐) | | 中标分类 | H82 | | 国际标准分类 | 29.045 | | 字数估计 | 10,192 | | 发布日期 | 2017-12-29 | | 实施日期 | 2018-07-01 | | 标准依据 | 国家标准公告2017年第32号 | | 发布机构 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | GB/T 35310-2017
200 mm silicon epitaxial wafer
ICS 29.045
H82
中华人民共和国国家标准
200mm硅 外 延 片
2017-12-29发布
2018-07-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布
前言
本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准
化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。
本标准起草单位.南京国盛电子有限公司、有色金属技术经济研究院。
本标准主要起草人.马林宝、骆红、杨帆、金龙、杨素心。
200mm硅 外 延 片
1 范围
本标准规定了直径200mm硅外延片的术语和定义、产品分类、要求、试验方法、检验规则以及标
志、包装、运输、贮存、质量证明书。
本标准适用于在N型和P型硅抛光衬底片上外延生长的硅外延片。产品主要用于制作集成电路
或半导体器件。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
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