GB/T 42158-2023 相关标准英文版PDF

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GB/T 42158-2023	英文版	474	GB/T 42158-2023	[PDF]天数 <=4	微机电系统（MEMS）技术微沟槽和棱锥式针结构的描述和测量方法	GB/T 42158-2023	有效

基本信息
标准编号	GB/T 42158-2023 (GB/T42158-2023)
中文名称	微机电系统（MEMS）技术微沟槽和棱锥式针结构的描述和测量方法
英文名称	Micro-electromechanical systems technology(MEMS) - Description and measurement methods for micro trench and pyramidal needle structures
行业	国家标准 (推荐)
中标分类	L59
国际标准分类	31.080.99
字数估计	26,272
发布日期	2023-03-17
实施日期	2023-07-01
发布机构	国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会

ICS31.080.99 CCSL59 中华人民共和国国家标准 GB/T 42158-2023/IEC 62047-26:2016 微机电系统(MEMS)技术微沟槽和棱锥式针结构的描述和测量方法 structures,IDT) 2023-03-17发布 2023-07-01实施国家市场监督管理总局国家标准化管理委员会发布目次前言 Ⅲ 1 范围 1 2 规范性引用文件 1 3 术语和定义 1 4 微米尺度沟槽结构的描述 1 4.1 概述 1 4.2 符号和名称 2 4.3 说明 3 5 微米尺度棱锥式针结构的描述 3 5.1 概述 3 5.2 符号和名称 4 5.3 说明 5 6 测量方法 5 附录A(资料性) 微米尺度沟槽和棱锥式针结构的测量示例 6 附录B(资料性) 尺寸测量不确定度 18 参考文献 20 前言本文件按照GB/T 1.1-2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。本文件等同采用IEC 62047-26:2016《半导体器件微机电器件第26部分:微沟槽和针结构的描述和测量方法》。本文件做了下列最小限度的编辑性改动: ---为进一步明确标准的适用领域,将“针结构”修改为“棱锥式针结构”,为与现有标准协调,将标准名称改为《微机电系统(MEMS)技术微沟槽和棱锥式针结构的描述和测量方法》; ---纠正了IEC 62047-26:2016原文的错误:为了清晰地显示样品的横截面,将A.2.1.2中“如4.2 的表1所示”更改为“如图1所示”,4.2的表1并未给出样品橫截面图。请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。本文件由全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC336)提出并归口。本文件起草单位:苏州市质量和标准化院、中机生产力促进中心有限公司、苏州揽芯微纳科技有限公司、东南大学、苏州市标准化协会、美满芯盛(杭州)微电子有限公司、深圳市中图仪器股份有限公司、四川富生电器有限责任公司、深圳市美思先端电子有限公司、中国合格评定国家认可中心、深圳市道格特科技有限公司。本文件主要起草人:张硕、顾枫、李根梓、沈俊杰、俞骁、周再发、王敏锐、贾建国、许百宏、许克宇、王志远、刘志广。微机电系统(MEMS)技术微沟槽和棱锥式针结构的描述和测量方法 1 范围本文件描述了微米尺度沟槽结构和棱锥式针结构,并给出两种结构几何形状的测量示例。本文件中沟槽结构的深度为1μm~100μm、沟槽宽和沟槽间隔宽均为5μm~150μm、深宽比为0.0067~20。棱锥式针结构具有三个或四个面,其高度、横向宽度和纵向宽度为2μm或更大,并且外轮廓尺寸可包含于边长为100μm的立方体内。本文件适用于 MEMS结构设计和 MEMS结构加工后的几何形状评估。 2 规范性引用文件本文件没有规范性引用文件。 3 术语和定义下列术语和定义适用于本文件。 3.1 沟槽结构 trenchstructure 在基片上刻蚀形成一个或多个上表面为矩形图形,横截面为一致(相同)梯形的结构。 3.2 在平面基底上一个由至少三个面组成的带有尖端的凸形结构,该凸形结构在平面基底的垂直面上具有对称平面。 3.3 沟槽阵列 walandtrench 两个或多个沟槽结构以有规律的间隔平行排列形成的结构。 3.4 波纹结构 scalop 在硅的深反应离子刻蚀(DRIE)工艺中,由重复进行的多次沟槽内聚合物钝化保护和底部选择性刻蚀形成的侧壁不规则周期性起伏结构。 4 微米尺度沟槽结构的描述 4.1 概述本文件......

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