路径: 主页 > SJ/T > 第81页 > SJ/T 11493-2015 | 标准编号 | SJ/T 11493-2015 (SJ/T11493-2015) | | 中文名称 | 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法 | | 英文名称 | Test method for measuring nitrogen concentration in silicon substrates by secondary ion mass spectrometry | | 行业 | 电子行业标准 (推荐) | | 中标分类 | H82 | | 国际标准分类 | 29.045 | | 字数估计 | 12,187 | | 发布日期 | 2015-04-30 | | 实施日期 | 2015-10-01 | | 引用标准 | GB/T 24580-2009 | | 标准依据 | 工业和信息化部公告2015年第28号;行业标准备案公告2015年第7号(总第187号) | | 发布机构 | 工业和信息化部 | | 范围 | 本标准规定了用二次离子质谱法(SIMS)对硅衬底单晶体材料中氮总浓度的测试方法。本标准适用于锑、砷、磷的掺杂浓度＜0.2%(1×1020at.cm-3)的单品样品, 其中氮的浓度大于等于1×1014at.cm-3。 | ......
|