| 标准编号 | SJ/T 11491-2015 (SJ/T11491-2015) |
| 中文名称 | 短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量 |
| 英文名称 | Test methods for measurement of interstitial oxygen content in silicon by short baseline infrared absorption spectrometry |
| 行业 | 电子行业标准 (推荐) |
| 中标分类 | H82 |
| 国际标准分类 | 29.045 |
| 字数估计 | 12,196 |
| 发布日期 | 2015-04-30 |
| 实施日期 | 2015-10-01 |
| 标准依据 | 工业和信息化部公告2015年第28号;行业标准备案公告2015年第7号(总第187号) |
| 发布机构 | 工业和信息化部 |
| 范围 | 本标准规定了用短基线红外光谱法测定硅中间隙氧含量。本标准适用于在室温下用短基线红外吸收法, 测量低电阻率的n型硅单晶和p型硅单晶中间隙氧含量。测量氧含量的有效范围从1×1016at.cm-3至硅单晶中间隙氧的最大固溶度的测试。 |