SJ/T 11503-2015 相关标准英文版PDF
| 标准号码 | 价格美元 | 第2步(购买) | 交付天数 | 标准名称 |
| SJ/T 11503-2015 | 279 | SJ/T 11503-2015 | [PDF]天数 <=3 | 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法 |
| 基本信息 | |
|---|---|
| 标准编号 | SJ/T 11503-2015 (SJ/T11503-2015) |
| 中文名称 | 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法 |
| 英文名称 | Test methods for measuring surface roughness of polished monocrystalline silicon carbide wafers |
| 行业 | 电子行业标准 (推荐) |
| 中标分类 | H83 |
| 国际标准分类 | 29.045 |
| 字数估计 | 12,125 |
| 发布日期 | 2015-04-30 |
| 实施日期 | 2015-10-01 |
| 引用标准 | GB/T 14264; GB/T 25915.1-2010 |
| 标准依据 | 工业和信息化部公告2015年第28号;行业标准备案公告2015年第7号(总第187号) |
| 发布机构 | 工业和信息化部 |
| 范围 | 本标准规定了测试碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的方法, 包括表面轮廓仪法和原子力显微镜法。本标准适用于碳化硅单品抛光片表面粗糙度的测试。其中, 原子力显微镜法仅适用于经过化学机械抛光或光学抛光且表面粗糙度的起伏在零点几微米范围内的碳化硅单晶抛光片。 |
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